video corpo

MOCVD-Auftragsmaschine TurboDisc EPIK 868
SputterDünnschichtrotierenden Kathoden

MOCVD-Auftragsmaschine
MOCVD-Auftragsmaschine
Zu meinen Favoriten hinzufügen
Zum Produktvergleich hinzufügen
 

Eigenschaften

Methode
MOCVD
Technologie
Sputter
Art der aufgebrachten Schicht
Dünnschicht
Weitere Eigenschaften
rotierenden Kathoden

Beschreibung

Führende Leistung mit maximaler Kapitaleffizienz und Platzersparnis EPIK® 868 von Veeco ist die leistungsstärkste MOCVD-Anlage der LED-Branche, die eine überragende Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit bei geringer Defektrate ermöglicht. EPIK 868 ist in vier Reaktorkonfigurationen erhältlich und verfügt über bahnbrechende Technologien, darunter die patentrechtlich geschützten IsoFlange™- und TruHeat™-Technologien, die für einen laminaren Fluss und ein gleichmäßiges Temperaturprofil über den gesamten Waferträger sorgen. Diese technologischen Innovationen ermöglichen höhere Erträge, die für Mini- und Mikro-LEDs erforderlich sind. Der EPIK 868 ist mit der TurboDisc®-Technologie ausgestattet, die höchste Systemverfügbarkeit und Betriebszeit ermöglicht. Der für die Massenproduktion konzipierte EPIK 868-Hochleistungsträger kann mehrere 4"- oder 6"-Wafergrößen aufnehmen und sorgt so für niedrigste Betriebskosten. Kunden können problemlos Prozesse von bestehenden TurboDisc-Systemen auf die neue EPIK 868 MOCVD-Plattform übertragen, um schnell mit der Produktion von hochwertigen Mini- und Mikro-LEDs zu beginnen. Hervorragende Homogenität mit geringer Defektivität Kompakte Cluster-Architektur Architektur mit hohem Durchsatz für maximale Produktion

---

Kataloge

Für dieses Produkt ist kein Katalog verfügbar.

Alle Kataloge von VEECO anzeigen
* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.