MOCVD-Auftragsmaschine TurboDisc K475i As/P

Dünnschicht

Die branchenweit produktivste As/P-MOCVD-Anlage mit den besten Ausbeuten in ihrer Klasse Die neue TurboDisc K475i As/P MOCVD-Anlage von Veeco ist der branchenweit beste Reaktor für die Herstellung von roten, orangefarbenen, gelben (R/O/Y) LEDs sowie Multifunktions III-V-Solarzellen, Laserdioden und Transistoren. Das K475i-System verfügt über ein neues Reaktordesign mit der Veeco Uniform FlowFlange™-Technologie, das Schichten mit sehr hoher Gleichmäßigkeit und verbesserter Wiederholgenauigkeit innerhalb von Wafern und Wafer-zu-Wafer mit der branchenweit niedrigsten Partikelgeneration erzeugt. Das einfache Design der Uniform FlowFlansch-Technologie ermöglicht eine einfache Abstimmung für eine schnelle Prozessoptimierung und eine schnelle Werkzeugrückgewinnung nach der Wartung für höchste Produktivität bei Anwendungen wie Beleuchtung, Solar, Laserdioden, pseudomorphe Transistoren mit hoher Elektronenmobilität (pHEMTs) und Heteroübergang-Bipolartransistoren (HBTs). Das neue Design der Uniform FlowFlansch-Technologie ermöglicht eine erstklassige Einheitlichkeit und Prozesswiederholgenauigkeit, die zu höheren Ausbeuten führen kann Robustes Reaktordesign bietet einfache Bedienung und schnellere Wiederherstellung nach der Wartung für maximale Betriebszeit Höchste Produktivität der Branche durch Vollautomatisierung Produktionsbewährte Plattform bietet niedrigste Betriebskosten