MOCVD-Auftragsmaschine TurboDisc EPIK™ 700

Kombiniert erstklassige Erträge und höchste Produktivität zu niedrigeren LED-Herstellungskosten Die preisgekrönte EPIK® 700 MOCVD-Anlage von Veeco ist die produktivste MOCVD-Anlage der LED-Industrie, die die Kosten pro Wafer um bis zu 20 Prozent im Vergleich zu früheren Generationen reduziert. Der EPIK 700 ist in Ein- und Zwei-Reaktor-Konfigurationen erhältlich und verfügt über bahnbrechende Technologien, darunter den neuen zentralen Injektionsstrom IsoFlange™ und die Waferspule TruHeat™, die einen homogenen laminaren Fluss und ein einheitliches Temperaturprofil über den gesamten Waferträger ermöglichen. Diese technologischen Innovationen erzeugen eine gleichmäßige Wellenlänge, um höhere Erträge in einem engeren Behälter zu erzielen. EPIK 700 bietet aufgrund seiner großen Reaktorgröße einen 2,5-fachen Durchsatzvorteil gegenüber anderen Systemen. Der EPIK 700 wurde für die Massenproduktion entwickelt und bietet Platz für Waferträgergrößen von 31x4", 12x6" und 6x8". Kunden können Prozesse von bestehenden TurboDisc-Systemen auf die neue MOCVD-Plattform EPIK 700 übertragen, um schnell und einfach hochwertige LEDs herzustellen. Aufgrund der flexiblen EPIK 700 MOCVD-Plattform werden weitere Upgrades, Zusatznutzen und zukünftige Verbesserungen diese Weltklasse-Anlage weiter differenzieren. Kosteneinsparungen pro Wafer von bis zu 20 Prozent im Vergleich zu früheren Generationen Best-in-Class Gleichförmigkeit und Prozesswiederholgenauigkeit sorgen für höhere Ausbeute in einem engeren Behälter Der industrieweit produktivste Reaktor erzeugt einen 2,5-fachen Durchsatzvorteil gegenüber früheren Reaktoren Maximale Produktion mit bewährter Automatisierung, verbesserter Servicefreundlichkeit, langen Kampagnen zwischen den Wartungsarbeiten und verbesserter Standflächeneffizienz im Vergleich zu MaxBright™ MOCVD-System