Messsystem / kritische Dimension Spector

optischfür HalbleiterHochpräzision

TZTEK bietet hochpräzise und wiederholbare Systeme für die Maskenmesstechnik, die bei der Maskenherstellung erforderlich sind. Masken können GOG und PSM oder andere sein. Für die Anforderungen der Masken-IQC in der Fabrik bietet TZTEK Objektive mit großem Arbeitsabstand zum Schutz der Maske mit Pellicle. Für die CD-Messung auf der Maske bietet das System sichtbare und UV-Beleuchtung sowohl im reflektierten als auch im transmittierten Modus. Mit der UV-Beleuchtung kann die Strukturbreite bis zu 300 nm gemessen werden, die Wiederholbarkeit (3sigma) liegt meist im Nanometerbereich. hauptmerkmale -Kritische Dimensionsmessung, Fehlerprüfung, Überprüfung von Masken -Erhältlich für Maskengrößen bis zu 14 Zoll und kundenspezifische Maskenformen sichtbare und UV-Beleuchtung im Durchlicht- und Reflexionsmodus verfügbar -SECS/GEM -Geringe Wartungskosten, stabil und zuverlässig