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Positioniersystem für Wafer-Inspektion und Metrologie 782430:002.26
XYZlinearfür Reinraum

Positioniersystem für Wafer-Inspektion und Metrologie
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Eigenschaften

Achszahl
XYZ
Aufbau
linear
Verwendung
für Wafer-Inspektion und Metrologie, für Reinraum
Weitere Eigenschaften
mit DC-Motor, Kugelgewindespindel, mit Linearmotor, Profilschienen
Wiederholbarkeit

0,3 mm, 0,5 mm
(0,012 in, 0,02 in)

Hub

100 mm, 820 mm
(3,94 in, 32,28 in)

Geschwindigkeit

150 mm/s, 750 mm/s

Beschreibung

Dieses Inspektionssystem besteht aus vier Reinraumachsen und ermöglicht die automatisierte Vermessung mehrer Objekte gleichzeitig. Hohe Dynamik und höchste Reproduzierbarkeit werden erreicht. Eine hochauflösende Kamera bzw. Sensor wird relativ zur Probe verfahren um Geometrien zu prüfen, Messungen auszuführen und spezielle Qualitätsmerkmale zu dokumentieren. Automatisierte und wartungsarme 24/7 Inspektion • Ideal zur automatisierten Inspektion von Wafern, Probecards und Leiterplatten • Inspektion mehrerer Objekte gleichzeitig durch Verfahrwege bis 720 mm • Ideal für die Integration von zwei Prozessen gleichzeitig • Wartungsarmer 24/7 Betrieb und flexibles Wartungskonzept durch den schnellen Systemaustausch auf der Granitstruktur Optional erweiterbar: • Ausführung für Reinraum ISO 14644-1 (bis Klasse 1 auf Anfrage) • Anschlüsse für Absaugung und umlaufende Bandabdeckungen • Verfügbar auch als Einzelportal • Gebrauchsfertige Steuerung mit vorkonfigurierten Controller inkl. Beispielsoftware

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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.