XY-Positioniersystem 786001:002.26

vertikallinearfür Wafer-Handling

XY-Theta-Justage von UV-Belichtungsmasken | Hochpräzises Positioniersystem für die Wafer-Belichtung in trockener Stickstoffatmosphäre Serienbaugruppen 786001:002.26 XY-Theta-Justage von UV-Belichtungsmasken | Hochpräzises Positioniersystem für die Wafer-Belichtung in trockener Stickstoffatmosphäre - Serienbaugruppen µm-Justage für Microstructuring unter extremen Bedingungen Dieses 3-Achs-Maskensystem ist speziell für die hochpräzise Justage von Belichtungsmasken für die UV-Lithografie entwickelt. Dieses Positioniersystem verfügt über drei Linearachsen mit parallel kinematischen Aufbau: zwei in X und eine in Y. Die beiden vertikalen Achsen erzeugen sowohl Vertikalhub (gleiche Bewegung) als auch Drehung (gegensinnige Bewegung). Es ermöglicht somit eine hochpräzise lineare und rotatorische Positionierung der Masken im Nanometerbereich unter ultravioletter Strahlung sowie in ultra-trockener Stickstoffatmosphäre. Hochpräzise UV-Wafer-Belichtung • Ideal für die die hochauflösende und automatisierte UV-Lithografie • Extrem feine XY-Theta-Ausrichtung von Belichtungsmasken mit bis zu 0.03 µrad • Geeignet für UV sowie ultra-trockene, sauerstofffreie Reinstickstoff-Atmosphäre • Minimierung der Streustrahlung durch ganzheitliches Konzept für Schmierung und Beschichtung • Flexibles, integriertes Wartungskonzept, wobei das System seitlich aus der optischen Achse heraus in gefahren wird Optional erweiterbar: • Verschiedene Verfahrwege • Auf die Anwendung angepasste Materialwahl und Schmierung • Individuelle Lösungen für die Integration in die kundenspezifische Gesamtanwendung • Ausführung für Reinraum ISO 14644-1 (bis Klasse 1 auf Anfrage)