·Schnelle HF-Zündung mit minimaler Reflexionsleistung für eine gleichmäßige und stabile Schichtabscheidung;
·Ausgereifte und stabile Multi-Feed-RF-Technologie, die auch für große Prozesskammern geeignet ist;
·Stufenlos einstellbare Gaszufuhr zwischen Diffusor und Substrat für flexible Prozessmöglichkeiten;
·Hoher Durchsatz bei relativ geringen Kosten, mit der Möglichkeit zur kundenspezifischen Produktgestaltung;
·Modularer Aufbau für einfache Installation und Wartung, verbunden mit höchsten Sicherheitsstandards vom Entwurf bis zur Fertigung.
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