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Beschichtungsanlage

Beschichtungsanlage - Shenzhen S.C New Energy Technology Corporation
Beschichtungsanlage - Shenzhen S.C New Energy Technology Corporation
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Beschreibung

Beschichtungsprinzip ·Magnetron-Sputtern (PVD). Merkmale ·Betrieb mit mehreren Kathoden für die Keimschicht und TCO-Tandemstrukturen mit mehreren Brechungsindizes. Kompatible Wafergrößen ·M10, M12/G12, Vollzelle / Halbzelle.

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Dies ist eine automatische Übersetzung.  (Originaltext auf Englisch anzeigen)

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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.