Beschichtungsmechanismus mit hoher Dissoziationsrate und fast ohne Ionenbeschuss, um gute Grenzflächeneigenschaften zu erhalten, bei denen mit dieser zuverlässigen Beschichtungstechnologie eine hohe Ladungsträgerbeweglichkeit erreicht werden kann.
Ausrüstung Anwendung
Transparente leitfähige Schicht (TCO) Beschichtung.
Verfahren
Durch einen Elektronenstrahl mit niedriger Energie sublimierte Target-Ionen in hohem freien Zustand rekombinieren auf dem Substrat und bilden einen hochwertigen Film.
Merkmale
- Der weltweit führende Hersteller von Heterojunction-Solarzellen wählt ausschließlich RPD-Anlagen.
- Bis zu 80 % Indium-Dissoziationsrate, wodurch ein hochwertiger, transparenter, leitfähiger Film entsteht.
- Der Beschichtungsprozess ist weniger als 30eV Ionenbeschuss, beschädigt nicht den amorphen Siliziumfilm und behält gute Grenzflächeneigenschaften bei.
- Die hohe Ladungsträgerbeweglichkeit und die niedrige Ladungsträgerkonzentration gewährleisten eine ausgezeichnete Leitfähigkeit und eine hohe langwellige Durchlässigkeit.
- Die IWO-Trägermobilität beträgt bis zu 80cm2/V.s, während die ICO-Trägermobilität bis zu 130cm2/V.s betragen kann.
- Langfristige Verifizierung der Massenproduktion von HJT-Zellenherstellern, der Umwandlungswirkungsgrad von HJT-Solarzellen, die mit RPD hergestellt wurden, ist 0,4 % höher als bei anderen Geräten.
- RPD-Anlagen vom linearen Typ und vom Schleifentyp können je nach Kundenwunsch geliefert werden.
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