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... · Prozessmerkmale mit niedrigem Druck und heißen Wänden, die eine bessere Schichtgleichmäßigkeit und eine gute Kompaktheit gewährleisten. · LPCVD-Verfahren: Dicht beladene Substrate haben nur geringen Einfluss auf die Beschichtungsrate, wobei eine hohe ...
Shenzhen S.C New Energy Technology Corporation
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Shenzhen S.C New Energy Technology Corporation
... Dieses Gerät erhöht den Wirkungsgrad durch die Abscheidung einer dünnen Al2O3-Schicht auf der Vorderseite des Wafers einer kristallinen Solarzelle durch thermische Atomlagenabscheidung (ALD) zur Bildung einer Passivierungsschicht. Spezifikation Hoher ...
... Das Infinity IBD-System liefert dichte, fehlerarme Schichten mit extrem hoher Präzision und Gleichmäßigkeit. Es bietet eine unabhängige Kontrolle über die Ionenenergien, so dass Sie exakte Dünnschichtspezifikationen mit sehr geringer Kontamination durch ...
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