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Solar-Auftragsmaschine LP-42 series
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Eigenschaften
- Anwendung
- Solar
Beschreibung
· Prozessmerkmale mit niedrigem Druck und heißen Wänden, die eine bessere Schichtgleichmäßigkeit und eine gute Kompaktheit gewährleisten.
· LPCVD-Verfahren: Dicht beladene Substrate haben nur geringen Einfluss auf die Beschichtungsrate, wobei eine hohe Beladungskapazität in einem einzelnen Rohr gegeben ist.
· Mehr Temperaturzonen, um die Gleichmäßigkeit zwischen den Wafern zuverlässig zu gewährleisten.
· Unabhängig einstellbarer, segmentierter Lufteinlass zum Ausgleich des Luftdurchsatzverlusts.
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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.