Mega-PiMS für Walzen
PLATIT hat eine Anlage mit vereinfachtem Beladen konzipiert, in der die Walzen horizontal angeordnet werden. Die Kathode befindet sich am Boden der Beschichtungskammer. SPUTTER-Technologie von PLATIT wird eingesetzt, um für die hochglanzpolierte oder strukturierte Oberfläche glatte Schichten zu garantieren.
Eingesetzte Technologien:
1 x SPUTTER-Kathode
1 x Anode auf der gegenüberliegenden Seite
Eingesetzte Ätzverfahren:
LGD® (Lateral Glow Discharge)
Plasma-Ätzen mit Argon, Glimmentladung
Beladung und Zykluszeiten:
2 - 4 Chargen/Tag mit einer Chargenzeit von 6 - 12 h, je nach Walzen
Beschichtungsvolumen bis zu ø 600 x L 3000 [mm]
Beschichtungsvolumen mit definierter Schichtdicke bis zu ø 600 x L 2000 [mm]
Beladung bis zu 1500 kg
Software:
Einfache Bedienung und Wartung
PLATIT SmartSoftware (PC- und PLC-System)
Moderner menügeführter Touchscreen
Prozessvisualisierung in Echtzeit mit Datenaufzeichnung und -verwaltung
Manuelle und automatische Prozesskontrolle
Ferndiagnose und -wartung
Maschinendimensionen:
Footprint (Anlage mit Schaltschrank):
B 4100 x T 2900 x H 2700 +
B 1900 x T 1100 x H 2200 [mm]