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Kontaktloses Dimensionsprüfsystem NEXIV VMZ-H3030

Kontaktloses Dimensionsprüfsystem - NEXIV VMZ-H3030 - Nikon Metrology
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Eigenschaften

Merkmal
kontaktlos

Beschreibung

Produktbeschreibung
Das NEXIV VMZ-H3030 von Nikon ist ein hochpräzises Video-Messsystem für schnelle und genaue Längen- und Höhenmessungen. Es bietet einen Messbereich von 300 × 300 × 150 mm (XYZ), verschiedene optische Zoomköpfe und einen TTL-Scannlaser (through-the-lens) als Standardausstattung.

Produkthighlights
  • Messbereich (X, Y, Z): 300 × 300 × 150 mm.
  • TTL-Scannlaser zur Höhenmessung mit hoher Geschwindigkeit (bis zu 1.000 Punkten/s).
  • Fünf optische Zoomkopf-Optionen (Typ 1–4 und TZ) für unterschiedliche Sichtfelder und Auflösungsanforderungen.
  • 8-Segment-Ringbeleuchtung mit drei Einfallswinkeln sowie episkopische/diaskopische/Dunkelfeld-Modi je nach Kopf.
  • Kontinuierlicher automatischer Messablauf zur Erhaltung der Messwiederholbarkeit trotz Bauteilpositionsabweichungen.


Wesentliche Eigenschaften
  • Hochgeschwindigkeits-Höhenabtastung: TTL-Laser-Autofokus bis 1.000 Punkte/s für schnelle Z-Datenerfassung.
  • Erkennung dünner transparenter Schichten (~0,1 mm) mittels TTL-Laser-Autofokus.
  • Mehrere Beleuchtungsmodi (episkopisch, diaskopisch, Dunkelfeld, segmentierter Ring) zur Messung schwieriger Kanten und Merkmale.
  • Kameraoptionen: VGA 1/3" S/W standard; Farboption für Typ 1, 2 und 3 verfügbar.


Zoomköpfe (Übersicht)
Typ 1 — Optische Vergrößerung: 0.5X–7.5X — Sichtfeld: 9.33×7.01 ~ 0.622×0.467 mm — Anwendungen: Formen, mechanische Teile (Haushalt, Automobil), Leiterplatten, elektronische Bauteile.
Typ 2 — Optische Vergrößerung: 1X–15X — Sichtfeld: 4.67×3.5 ~ 0.311×0.233 mm — Anwendungen: Formen, mechanische Teile, Leiterplatten, elektronische Bauteile.
Typ 3 — Optische Vergrößerung: 2X–30X — Sichtfeld: 2.33×1.75 ~ 0.155×0.117 mm — Anwendungen: elektronische Bauteile.
Typ 4 — Optische Vergrößerung: 4X–60X — Sichtfeld: 1.165×0.875 ~ 0.078×0.058 mm — Anwendungen: hochdichte Package-Substrate (Linie, Breite, Höhe).
Typ TZ — Optische Vergrößerung: 1X–120X — Sichtfeld: 4.67×3.5 ~ 0.039×0.029 mm — Anwendungen: Wafer-Pattern (WLP, Bump-Höhe, Rewiring-Maske, MEMS-Maske).

Beleuchtung (Kurz)
Typen 1–3: episkopisch, diaskopisch und 8-Segment-Ring mit 3 Einfallswinkeln (weiße LEDs). Typ 4: episkopisch, diaskopisch, Ring (1 Winkel). Typ TZ: episkopisch, diaskopisch, Dunkelfeld.

Spezifikationen
  • XYZ-Verfahrwege: 300 × 300 × 150 mm.
  • Minimale Anzeigeauflösung: 0,01 μm.
  • Max. Probengewicht: 30 kg (Genauigkeitsgarantie bis 10 kg).
  • Max. zulässige Abweichung (für Proben < 20 kg): E_UX,MPE / E_UY,MPE: 0.6 + 2L/1000 μm; E_UXY,MPE: 0.9 + 3L/1000 μm; E_UZ,MPE: 0.9 + L/150 μm.
  • Garantierte Genauigkeitstemperatur: 20 °C ± 0,5 K.
  • Max. Verfahrgeschwindigkeit XY, Z: 100 mm/s, 50 mm/s. Min. Verfahrgeschwindigkeit: 0,01 mm/s, 0,001 mm/s.
  • Autofokus: Vision AF und Laser AF (TTL-Standard).
  • Netz: AC 100–240 V ±10% 50/60 Hz. Leistungsaufnahme: 5 A–2,5 A.
  • Abmessungen (Hauptgerät mit Tisch): 1000 × 1125 × 1750 mm / ca. 500 kg. Controller: 190 × 450 × 440 mm / ca. 15 kg. Footprint: 3000 × 2800 mm.
* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.