Atomemissionsspektrometer ICP-8100

optische EmissionICPICP-OES

Kurzbeschreibung
Das ICP-8100 induktiv gekoppelte Plasma-Emissionsspektrometer führt quantitative und qualitative Analysen von Metall- und ausgewählten Nichtmetall-Elementen in Flüssigproben und in zu Lösungen aufbereiteten Feststoffen durch. Entwickelt für industrielle und Labor-Elementaranalysen mit Nachweisgrenzen im ppb-Bereich und hoher Mehrfachelement-Kapazität.

Funktionsprinzip
Die Probe wird als Aerosol im Argonplasma atomisiert und angeregt; die charakteristischen Emissionslinien werden dispersiv getrennt und detektiert, um Elementkonzentrationen zu bestimmen.

Gesamtleistungsindikatoren des Instruments

• Wellenlängenbereich: 180–800 nm (2400 Linien/mm) oder 180–500 nm (3600 Linien/mm)
• Auflösung: ≤0.006 nm (Vollbereich)
• Wellenlängen-Genauigkeit: ≤0.02 nm; Wiederholbarkeit ≤0.003 nm
• Scan-Schritt: 0.0004 nm
• Präzision (RSD): ≤1,50 %; Stabilität (RSD): ≤2 %
• Nachweisgrenze: ppb-Bereich
• Elemente: alle außer C, S sowie bestimmten leichten Nichtmetallen und einigen radioaktiven Metallen
• Linearer Bereich: ≥7 Größenordnungen
• Analysengeschwindigkeit: ≥25 Elemente/min
• Zertifikate: Nationale Messgeräte Klasse A

Hauptteile — detaillierte Parameter
Hochfrequenzgenerator (RF)
Schaltungstyp: selbstangeregte Schwingung mit Induktivitätsrückkopplung
Ausgangsleistung: 800–1200 W
Arbeitsfrequenz: 40.68 MHz ±0.05%
Leistungsstabilität: ≤0.3%
Frequenzstabilität: <0.1%
EMF-Leckage: bei 30 cm E < 1 V/m

Injektionsgerät
Ausgangsspulen-Innendurchmesser: 25 mm, 3 Windungen
Fackel: dreifach konzentrische Quarzfackel, Außendurchmesser 20 mm
Koaxialvernebler: Außendurchmesser 6 mm (kundenspezifisch möglich)
Sprühkammer (binokular): Außendurchmesser 34 mm (kundenspezifisch möglich)
Beobachtungsposition: vertikal

Argon-Durchflussmesser und Druckregler Spezifikationen
Plasma-Gasfluss: 100–1000 L/h (1,6–16 L/min)
Hilfsgasfluss: 1–100 L/h (0,16–1,66 L/min)
Trägergasfluss: 10–100 L/h (0,16–1,66 L/min)
Trägergas-Regelventil: 0–0,4 MPa
Kühlwasser: 15–25 °C; Durchfluss > 5 L/min; Druck > 0,1 MPa; Leitfähigkeit (Resistivität) > 1 MΩ

Monochromator / Zerleger
Optischer Aufbau: Czerny–Turner
Scan-Schritt: 0.0004 nm
Brennweite: 1000 mm
Ein-/Ausgangsspalt: 20 μm × 25 μm
Gitter: ionengeätztes holographisches Gitter; Optionen 3600 oder 2400 Linien/mm (80 × 110 mm)
Reziproke lineare Dispersion: 0.26 nm/mm
Auflösung: ≤0.006 nm (voller Bereich)
Temperaturregelung: 26 °C ±1 °C
Scanbereich: 180–500 nm (3600 l/mm) oder 180–800 nm (2400 l/mm)

Messgerät
Photomultiplier: R212UH oder R928
Negativhochspannung: 0–1000 V automatisch, Stabilität < 0.05%
Strommessbereich: 10^-12 – 10^-4 A (optional)
Abtastschaltung: hochpräziser Operationsverstärker für Empfindlichkeit und Genauigkeit
Datenaufnahme: PC-Anschluss über serielle Schnittstelle
Messverfahren: Einzel- und Mehr-Element-Sequenzmessung, Ein-Durchgang-Scan
Signal V/F-Wandlung: 1 mV = 100 Hz

Hauptmerkmale und Softwarefunktionen

• Optimierte Optik und fortschrittliche Steuerung für hohe Signal-zu-Hintergrund-Verhältnisse
• Importierte Schlüsselkomponenten für Genauigkeit und Empfindlichkeit
• Minimale Matrixeffekte; ~99 % der Proben benötigen keine Matrixtrennung
• Breiter Messbereich: von Ultratrace bis zu hohen Konzentrationen
• Mehr-Element-Analyse: ~72 Metalle und ausgewählte Nichtmetalle
• Qualitative und quantitative Analysen
• Windows-basierte Software in Chinesisch/Englisch mit flexiblen Ausgabe- und Druckoptionen

Einzigartige Softwarevorteile
Eigene Multi-Window-Analyse-Software mit Firmenlogo; unterstützt Standardzugabe, Einzel-/Mehrpunktmodi, Gauß-Anpassung, Multitasking; voreingestellte Schnellanalysemodi; Drucker- und Ausgabeformatunterstützung.

Kundenvorteile
Herstellererfahrung seit 2000 mit nationalen und internationalen Kunden; liefert präzise, hochsensible und stabile Plasma-Emissionsspektrometer für Labor- und Industrieanwendungen.

Technische Daten

• Modell: ICP-8100
• Wellenlängenbereich: 180–800 nm (2400 Linien/mm) oder 180–500 nm (3600 Linien/mm)
• Auflösung: ≤0.006 nm (Vollbereich)
• Wellenlängen-Genauigkeit: ≤0.02 nm; Wiederholbarkeit ≤0.003 nm
• Scan-Schritt: 0.0004 nm
• Präzision (RSD): ≤1,50 %; Stabilität (RSD): ≤2 %
• Nachweisgrenze: ppb-Bereich
• Elemente: alle außer C, S und bestimmte leichte Nichtmetalle oder einige radioaktive Metalle
• Analysengeschwindigkeit: ≥25 Elemente/min
• RF-Ausgangsleistung: 800–1200 W; Frequenz 40.68 MHz ±0.05%
• Photomultiplier: R212UH oder R928; HV 0–1000 V
• Kühlwasser: 15–25 °C; Durchfluss > 5 L/min; Druck > 0,1 MPa; Leitfähigkeit > 1 MΩ
• Software: Windows-basiert, Chinesisch/Englisch, Multi-Window-Analyse