ÜbersichtDie nXQ55i ist eine trockene, staubfreie mehrstufige Roots‑Pumpe, entwickelt zur Minimierung von Gasverlusten und zur Gewährleistung eines reproduzierbaren Betriebs in sensiblen Prozessen. Die dichte Konstruktion erhält die Gasreinheit und Systemintegrität und liefert zuverlässige Leistung bei leichten und seltenen Gasen wie Helium‑3 und Helium‑4. Typische Anwendungen: Helium‑Kryostate, Dilutionskühlsysteme, Lecksuche sowie Rückgewinnungs-/Rezirkulationssysteme für Gase.
Funktionen und Vorteile- Dichtheitsgerechte Ausführung
Entwickelt zur Erfüllung strenger Dichtheitsanforderungen mit Leckraten unter 5×10⁻⁸ mbar·l/s. Jede Einheit wird einem integralen Lecktest unterzogen und mit einem Prüfzeugnis ausgeliefert.
- Gute Leistung bei leichten Gasen
Optimiert für seltene und leichte Gase; hohe Förderleistung für Helium (bis zu 52 m³/h), unterstützt effiziente Rückgewinnung und stabilen Betrieb auch bei Dauerbetrieb.
- Trockene Bauweise
Kompaktes, ölfreies und staubfreies Design für saubere Prozesse, reduzierte Wartung und Wegfall von Ölwechseln bzw. Ölentsorgung. Geringe Geräuschentwicklung und reduzierter Energieverbrauch senken die Gesamtbetriebskosten und ermöglichen verlängerte Wartungsintervalle.
Technische Daten- Modell: nXQ55i
- Leckrate: unter 5×10⁻⁸ mbar·l/s (integraler Lecktest mit Zertifikat)
- Helium‑Förderleistung: bis zu 52 m³/h (für Helium)
- Geeignete Gase: Helium‑3, Helium‑4 und andere leichte/seltene Gase
- Ausführung: trockene, mehrstufige Roots‑Pumpe (staubfrei)
- Wartungsintervall: wartungsarm, bis zu 5 Jahre unter empfohlenen Bedingungen
- Anwendungen: Helium‑Kryostate, Dilutionskühlsysteme, Lecksuche, Rückgewinnung/Rezirkulation seltener Gase und andere sensible Anwendungen
- Vorteile: geringe Geräuschentwicklung, reduzierter Energieverbrauch, keine Ölwechsel bzw. Ölbeseitigung