Sputter-Auftragsmaschine / mit Magnetron DEIMOS 5500

für Spiegel

Übersicht
Die DEIMOS 5500 ist eine Vakuumbeschichtungsanlage für Präzisionsoptiken auf Basis von Magnetronsputtern, ausgelegt zum Auftrag von Schutz- und Verstärkungsschichten in Aluminium oder Silber auf großen, gekrümmten astronomischen Spiegeln zur Erreichung hoher Reflexionsgrade, Gleichmäßigkeit und Dauerhaftigkeit der Schichten.

Hauptvorteile

• Hohe Schichtgleichmässigkeit — elektrisch verstellbare Target-Neigung und Abstandsanpassung ermöglichen die Anpassung an gekrümmte Substrate und führen zu gleichmässigen Al/Ag Schutz- oder Verstärkungsschichten.
• Schnelle Substrat-Handhabung — Schienensystem erlaubt das Herausfahren der unteren Kammerhälfte für vollständigen Zugang und schnellen Substratwechsel.
• Flexible Leistungsoptionen — vier Sputter-Targets mit Wahl zwischen gepulster DC- oder DC-Versorgung zur Prozessanpassung.

Besondere Merkmale

• Verstellbare Kathodenneigung — jedes Target ist verschieb- und neigbar; Elektroantriebe sorgen für reproduzierbare Positionierung, Einstellungen speicherbar in Fertigungsrezepten.
• MF- oder DC-Glimmentladung für Vorreinigung — integrierte Glimmentladungseinheiten ermöglichen kontrollierte Kammerreinigung und Entfeuchtung; Reinigungszyklen speicherbar.
• Zugängliches Design — die untere Kammerhälfte auf Schienen erleichtert Zugang zu Substraten, Targets und Komponenten, besonders bei großen Durchmessern (bis 4,5 m), und vereinfacht Betrieb und Wartung.

Anwendung
Entwickelt für die Beschichtung astronomischer und anderer großformatiger Präzisionsoptiken mit geschützten oder verstärkten Aluminium‑ bzw. Silberschichten, wenn Reflexion, Gleichmässigkeit und Langlebigkeit entscheidend sind.

Charakteristiken / technische Spezifikationen

• Modell: DEIMOS 5500
• Prozess: Magnetron‑Sputter Vakuumbeschichtung (Präzisionsoptik‑Vakuumcoater)
• Beschichtungsmaterialien: Aluminium (Al) und Silber (Ag) — Schutz‑ und Verstärkungsschichten
• Anzahl Targets: 4
• Leistungsoptionen: Gepulste DC oder DC Sputter‑Versorgung
• Target‑Anpassung: Elektrisch verstellbare Neigung und Target‑Abstand; Positionen speicherbar in Rezepten
• Vorreinigung: MF‑ oder DC‑Glimmentladungseinheiten für Entfeuchtung und Reinigung; Zyklen speicherbar
• Substrat‑Handling: Untere Kammerhälfte auf Schienen für vollständigen Zugang und schnellen Wechsel
• Max. Substratdurchmesser: Bis 4,5 m
• Design‑Einsatz: Astronomische und präzise optische Spiegel mit Anforderungen an Reflexion, Gleichmässigkeit und Haltbarkeit
• Betrieb & Wartung: Einfacher Zugang zu Targets, Substraten und Prozesskomponenten für vereinfachte Wartung und Rezept‑basierte Reproduzierbarkeit