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Wafer-Ätzmaschinen / Plasma
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... Die nächste Generation von Bauelementen mit einer Größe von 20 nm und darunter erfordert Doppelstrukturierung, 3D-Strukturen (dreidimensionale Strukturen) und komplexe, hochpräzise Prozesse, die die Bildung von Schutzschichten und Finishing-Techniken ...
... High-Tech bietet mit einer neuen Mikrowellen-ECR-Plasmaätzkammer (Elektronen-Zyklotron-Resonanz), einer Hochgeschwindigkeits-Wafer-Temperaturregelung und einer Hochvakuum-Absaugregelung eine hervorragende Profilkontrolle ...
... einschließlich der patentierten Entwicklung der Multi-Spiral Inductive Coupled Plasma Spule (MS-ICP) und ihrer Anwendung für Arrays von Verbindungshalbleitermaterialien. Der APX300-S kann Wafer verarbeiten, ...
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