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Arbeitsbreite: 5 mm - 200 mm
... Sie wird hauptsächlich für das beidseitige Läppen und Polieren von Metall, Nichtmetall, Saphir und Halbleitermaterialien verwendet, mit Luftdruck und Scheibenkühlung ...
... Hocheffizienz-Solarzellen Verwendet zum Polieren, Ätzen und Reinigen Nano-Bubble-Reinigung zur effizienten Reinigung der Oberfläche von Silizium-Wafern Mit trockenem Reinigungsbereich und Selbstreinigungssystem Vermeiden Sie Kreuzkontaminationen ...
... ist äußerst flexibel einsetzbar und ermöglicht die Bearbeitung vieler verschiedener Materialien, darunter Galliumarsenid, Silizium, Gestein und Böden. Die PM6 wird in vielen Bereichen eingesetzt: Präparation von geologischen Dünnschliffen: ...
... Bei diesen Maschinen handelt es sich um zweiachsige, hochpräzise Einseiten-Poliermaschinen. Der Polierkopf kann rotieren, schwenken und unter Hochdruck und Hochgeschwindigkeit arbeiten, kann einen oder mehrere Wafer polieren und erfüllt die Anforderungen ...
... Die JX300FP ist eine führende 12-Zoll-CMP-Anlage, die auf Basis der fortschrittlichen CMP-Technologie von ATW JX entwickelt wurde, um den höchsten Anforderungen der Branche gerecht zu werden. Dieses Gerät ist mit leistungsstarken Poliereinheiten ausgestattet ...
Wuxi Autowell Technology Company
... Das FTB150MP ist ein 6-Zoll-CMP-Gerät, das speziell für Laboranwendungen nach Kundenwunsch entwickelt wurde. Es ist mit verschiedenen Materialien kompatibel und verfügt über leistungsstarke Poliereinheiten, um eine extrem hohe Oberflächenebenheit der ...
Wuxi Autowell Technology Company
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