Lasersysteme zur Materialbearbeitung

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kontinuierliches Lasersystem
kontinuierliches Lasersystem
YLR-AM

Leistung: 5.000, 1.000 W
Wellenlänge: 1.070 nm

... Übersicht
Dual-Mode-Faserlaser integrieren Single-Mode- und Multi-Mode-Ausgänge in einer einzigen Faser, wodurch ein schnelles Umschalten zwischen kleinen und großen Spotgrößen möglich wird. Entwickelt für hochproduktive Metall-Additive-Fertigung, ...

Pulslasersystem
Pulslasersystem
NL200

Leistung: 600 W
Wellenlänge: 213, 266, 355, 532, 1.064 nm

Die NL200-Serie ist ein kompakter, luftgekühlter, Q-geschalteter DPSS-Nanosekundenlaser, der für hohe Pulsenergien bei kHz-Wiederholraten ausgelegt ist. Sein endgepumptes Design gewährleistet Kompaktheit und einfache Integration in verschiedene industrielle ...

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EKSPLA
Pulslasersystem
Pulslasersystem
NanoFlux SLM

Leistung: 5.000, 6.000, 8.000 W
Wellenlänge: 266, 355, 532, 1.064 nm

Die NanoFlux SLM Serie sind Nd:YAG-Laser mit hoher Energie und Einzelmodus (SLM) mit Q-Switch, die für anspruchsvolle Anwendungen entwickelt wurden, die hohe Pulsenergie und hervorragende Stabilität erfordern. Diese elektro-optisch Q-geschalteten Nanosekundenlaser ...

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Pulslasersystem
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NanoFlux AWG

Leistung: 6.000, 9.000, 13.000 W
Wellenlänge: 355, 532, 1.064 nm

Die NanoFlux AWG-Serie sind zeitlich geformte Hochenergie-Nd:YAG-Laser, die für fortgeschrittene wissenschaftliche und industrielle Anwendungen entwickelt wurden. Das Hauptmerkmal dieser Laser ist die Fähigkeit, Ausgangsimpulse zeitlich zu formen, erreicht ...

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