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Sputter-Auftragsmaschine / mit Magnetron PVD
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Eigenschaften
- Merkmal
- mit Magnetron
Beschreibung
Vorstellung
Nachrüstung für PVD-Anlagen. Wir bieten Hardware- und Software-Updates für Ihre PVD-Anlage an. Komplette Nachrüstung: Heizung, Magnetron-Kathoden, Regelung reaktiver Gase, Thermoregulation des Vakuumgehäuses und Software.
Betroffene Baureihen / Modelle
HF & MW6
Angebotene Nachrüstungen und Eingriffe
Merkmale / technische Daten
Nachrüstung für PVD-Anlagen. Wir bieten Hardware- und Software-Updates für Ihre PVD-Anlage an. Komplette Nachrüstung: Heizung, Magnetron-Kathoden, Regelung reaktiver Gase, Thermoregulation des Vakuumgehäuses und Software.
Betroffene Baureihen / Modelle
HF & MW6
Angebotene Nachrüstungen und Eingriffe
- Substrathalter-Heizung von 200 bis 800 °C
- Hinzufügung von Abschirmklappen, Bewegung des Substrathalters, Druck- und Temperaturmessung
- Thermoregulierung des Vakuumgehäuses
- Überholung von Magnetron-Kathoden oder Lichtbogenquellen
- Regelung reaktiver Gase mittels optischer Spektrometrie
Merkmale / technische Daten
- Graphit-Heizung für PVD-Anlagen mit Magnetron-Sputtern
- Magnetron-Kathoden mit Klappen für Sputter-PVD
- Drehbarer Abdeckdeckel des Substrathalters
- Temperaturbereich des Substrathalters: 200 bis 800 °C
- Integrierte Messungen: Druck und Temperatur
- Thermoregulierung der Vakuumkammer
- Möglichkeit zur Überholung: Magnetron-Kathoden oder Lichtbogenquellen
- Regelung reaktiver Gase über optische Spektrometrie
Kataloge
Round Magnetron Cathodes
2 Seiten
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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.