Kalibrierungssoftware Calibre® MPCpro
EntwicklungsProjektentwicklungModellierung

Kalibrierungssoftware
Kalibrierungssoftware
Kalibrierungssoftware
Zu meinen Favoriten hinzufügen
Zum Produktvergleich hinzufügen
 

Eigenschaften

Funktion
Kalibrierung, Entwicklungs, Projektentwicklung, Modellierung, Kontroll, Prozesssteuerung, Dimensionierung
Anwendung
Prozess, Optik

Beschreibung

Die Calibre Mask Process Correction Familie von regelbasierten und modellbasierten Produkten wird in der fortschrittlichen Fotomaskenherstellung eingesetzt, um systematische Maskenlithografie- und Prozessfehlerquellen zu korrigieren, um sicherzustellen, dass die Signatur der kritischen Maskenabmessungen innerhalb der Spezifikation liegt.Technical Paper Validierung der Maskenprozesskorrektur für die Mehrstrahl-Maskenlithografie In diesem Papier stellen wir einen vollständigen Zyklus der MPC-Kalibrierung und -Verifizierung vor, bei dem bestehende, bewährte Maskenprozesse in Kombination mit einem neuartigen MBMW-System verwendet werden. Calibre Produkte zur Maskenprozesskorrektur Die regelbasierten und modellbasierten Produkte von Calibre Mask Process Correction bieten erstklassige Skalierbarkeit und Genauigkeit, um Fehlerquellen vom Nanometer- bis zum Zentimeterbereich für Elektronenstreuung und Prozessbelastungseffekte zu korrigieren. Fortschrittliche Modellierungswerkzeuge ermöglichen eine Modellkalibrierung mit einer Genauigkeit von <1 nm. Produkt Kaliber MPCpro Regelbasierte Korrektur von Linearität, Through-Pitch-Bias, Verkürzung von Leitungsenden und Langstrecken-Dichteeffekten.

---

Kataloge

* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Lieferkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.