Kalibrierungssoftware Calibre® MPCpro

EntwicklungsProjektentwicklungModellierung

Die Calibre Mask Process Correction Familie von regelbasierten und modellbasierten Produkten wird in der fortschrittlichen Fotomaskenherstellung eingesetzt, um systematische Maskenlithografie- und Prozessfehlerquellen zu korrigieren, um sicherzustellen, dass die Signatur der kritischen Maskenabmessungen innerhalb der Spezifikation liegt.Technical Paper Validierung der Maskenprozesskorrektur für die Mehrstrahl-Maskenlithografie In diesem Papier stellen wir einen vollständigen Zyklus der MPC-Kalibrierung und -Verifizierung vor, bei dem bestehende, bewährte Maskenprozesse in Kombination mit einem neuartigen MBMW-System verwendet werden. Calibre Produkte zur Maskenprozesskorrektur Die regelbasierten und modellbasierten Produkte von Calibre Mask Process Correction bieten erstklassige Skalierbarkeit und Genauigkeit, um Fehlerquellen vom Nanometer- bis zum Zentimeterbereich für Elektronenstreuung und Prozessbelastungseffekte zu korrigieren. Fortschrittliche Modellierungswerkzeuge ermöglichen eine Modellkalibrierung mit einer Genauigkeit von <1 nm. Produkt Kaliber MPCpro Regelbasierte Korrektur von Linearität, Through-Pitch-Bias, Verkürzung von Leitungsenden und Langstrecken-Dichteeffekten.