Die Calibre Mask Process Correction Familie von regelbasierten und modellbasierten Produkten wird in der fortschrittlichen Fotomaskenherstellung eingesetzt, um systematische Maskenlithografie- und Prozessfehlerquellen zu korrigieren, um sicherzustellen, dass die Signatur der kritischen Maskenabmessungen innerhalb der Spezifikation liegt.Technical Paper
Validierung der Maskenprozesskorrektur für die Mehrstrahl-Maskenlithografie
In diesem Papier stellen wir einen vollständigen Zyklus der MPC-Kalibrierung und -Verifizierung vor, bei dem bestehende, bewährte Maskenprozesse in Kombination mit einem neuartigen MBMW-System verwendet werden.
Calibre Produkte zur Maskenprozesskorrektur
Die regelbasierten und modellbasierten Produkte von Calibre Mask Process Correction bieten erstklassige Skalierbarkeit und Genauigkeit, um Fehlerquellen vom Nanometer- bis zum Zentimeterbereich für Elektronenstreuung und Prozessbelastungseffekte zu korrigieren. Fortschrittliche Modellierungswerkzeuge ermöglichen eine Modellkalibrierung mit einer Genauigkeit von <1 nm.
Produkt
Kaliber MPCpro
Regelbasierte Korrektur von Linearität, Through-Pitch-Bias, Verkürzung von Leitungsenden und Langstrecken-Dichteeffekten.
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