Manueller Pulverbeschichtungsmaschine B2250
automatisch

manueller Pulverbeschichtungsmaschine
manueller Pulverbeschichtungsmaschine
manueller Pulverbeschichtungsmaschine
manueller Pulverbeschichtungsmaschine
manueller Pulverbeschichtungsmaschine
Zu meinen Favoriten hinzufügen
Zum Produktvergleich hinzufügen
 

Eigenschaften

Merkmal
manuell, automatisch

Beschreibung

Beschichtung von Pulvern Bewerbung Die Chargenbeschichtungsanlage B2250 ist eine einzigartige Anlage für die Abscheidung von Metallen, Legierungen und Oxiden auf dispersen Materialien mit einem Durchmesser von 50 bis 400 µm. Technik und Technologie Die Pulverbeschichtungsanlage B2250 ist eine Batch-Anlage für den Einsatz in der Produktion und bei F&E-Arbeiten. Die Beschichtung erfolgt mit SIDRABE-Hochrate-Verdampferschiffen oder DC-Sputtermagnetrons Je nach gewünschter Beschichtung wird das Pulver als fallender Pulverschleier oder als Pulverschicht auf dem Rütteltransporter freigelegt. Mehrfache Umwälzungen des Pulvers in einem geschlossenen Kreis sorgen für eine allmähliche Erhöhung der Schichtdicke während des Beschichtungszyklus. Das Kühl-/Heizsystem stabilisiert die Temperatur der Kontaktflächen im Bereich von - 20 bis +110 oC während der Pulverzirkulation. Die Pulvertrocknung kann vor der Beschichtungsabscheidung eingeleitet werden. Die Pulverkühlung kann nach Erreichen der Grenztemperatur von 50 °C eingeleitet werden, um die Pulveragglomeration zu verhindern. Alle Einbauten der Vakuumkammer sind maximal geschlossen, um Pulververluste zu verhindern und die Mechanismen innerhalb der Kammer zu schützen Es besteht die Möglichkeit, die Zusammensetzung und Dicke der Beschichtung während des laufenden Prozesses zu überwachen. Die Temperatur des Pulvers und der Kontaktflächen wird kontinuierlich überwacht Das Prozessgaseinlasssystem umfasst Massendurchflussregler Das Pumpsystem besteht aus Öldiffusionspumpen mit wassergekühlten Fallen. Die Steuerung der Beschichtungsanlage erfolgt über eine SPS entweder im automatischen oder manuellen Modus. Datenblatt Substrat: disperse Materialien, Partikeldurchmesser 50 ... 400 µm .. Produktivität: 1...10 Tonnen/Jahr Beschichtung: Metalle, Legierungen, Oxide Schichtdicke: bis zu 1 µm Quellen für Ablagerungen: DC-Planar-Magnetrons oder patentierte Verdampferschiffchen von SIDRABE

---

Kataloge

Für dieses Produkt ist kein Katalog verfügbar.

Alle Kataloge von Sidrabe Inc. anzeigen
* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.