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Beschichtungsanlage
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Beschreibung
Beschichtungsprinzip
·Magnetron-Sputtern (PVD).
Merkmale
·Betrieb mit mehreren Kathoden für die Keimschicht und TCO-Tandemstrukturen mit mehreren Brechungsindizes.
Kompatible Wafergrößen
·M10, M12/G12, Vollzelle / Halbzelle.
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Inline Equipment Series
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