Infrarotmikroskop NIR

für Forschungszweckefür HalbleiterNahinfrarot

Übersicht
Dieses NIR‑Mikroskop ist für die Nahinfrarot‑Bildgebung von Siliziumwafern von der Rückseite ausgelegt. Die Demonstrationen und Datensätze konzentrieren sich auf Wellenlängenvergleiche und Bildverarbeitungsabläufe, die für die Inspektion und Forschung in der Halbleitertechnik relevant sind.

Evaluationsvideo
Das Evaluationsvideo zeigt eine Timeline der Rückseitenabbildung des Wafers und Beispiele zur Bildverarbeitung:

• 0 s: Rückseitenoberfläche des Siliziumwafers
• 7 s: Musterbild bei 1100 nm
• 16 s: Musterbild bei 1100 nm nach Bildverarbeitung
• 27 s: Musterbild bei 1300 nm
• 38 s: Musterbild bei 1550 nm

Vergleichsbilder
Seiten‑an‑Seiten‑Vergleich von Rückseitenbildern des Siliziumwafers, aufgenommen bei 1100 nm, 1300 nm, 1450 nm und 1550 nm, zur Verdeutlichung von Kontrast und Merkmalssichtbarkeit je Wellenlänge.

Enthaltene Bilder

• Bildkarussell mit mehreren Folien, die Mikroskop‑ und Waferbilder zeigen (Slide1 bis Slide16)
• Vergleichsbilder mit den Bezeichnungen bawah1, bawah2, bawah3 zur Darstellung von Rückseitenmustern des Wafers

Eigenschaften / Technische Daten

• Verglichene Wellenlängen: 1100 nm, 1300 nm, 1450 nm, 1550 nm
• Enthält Demonstration der Bildverarbeitung (Beispiel bei 16 s im Evaluationsvideo)
• Visuelles Material: mehrteiliger Bildkarussell sowie gekennzeichnete Vergleichsdateien
• Demonstrationsvideo verfügbar, das Timeline und verarbeitete Ergebnisse der NIR‑Bildgebung zeigt