ÜbersichtDer Laser-Gasanalysator LG-100 Series führt Echtzeitmessungen von Partialdruckänderungen von Siliciumtetrafluorid (SiF4) durch, das bei Ätzprozessen in der Halbleiterfertigung entsteht. Diese Messungen ermöglichen die Endpunktdetektion und verringern das Risiko von Unter- oder Überätzen, wodurch Produktivität und Ausbeute verbessert werden.
Technologie und AnwendungDie LG-100 Series integriert HORIBAs IRLAM™ (Infrared Laser Absorption Modulation) Infrarot-Gasanalysetechnologie. IRLAM ermöglicht hochempfindliche Messungen von Spurngasen auf ppb-Niveau mit einer Ansprechzeit von ca. 0,1 s. Das Analysengerät unterstützt Mehrkomponenten-Gasanalyse und schnelle Reaktionszeiten, geeignet für Ätzprozesse in fortgeschrittener Logikfertigung und für Anwendungen ohne Plasma.
Hauptmerkmale- Hochempfindliche, hochgeschwindigkeits Messung von Abgasbestandteilen, die durch Ätzprozesse entstehen
- Endpunktdetektion durch Änderungen der Gaszusammensetzung (SiF4-Überwachung)
- Ausgelegt für die Überwachung von Nicht-Plasma-Ätzprozessen
- IRLAM™ ermöglicht die Detektion von Spurgasen auf ppb-Niveau mit einer Ansprechzeit von ≈0,1 s
VorteileDie Echtzeitüberwachung der Partialdrücke ermöglicht eine präzise Endpunktdetektion während des Ätzens, minimiert Unter- und Überätzen und unterstützt eine höhere Produktionseffizienz. Die schnelle, empfindliche Mehrkomponenten-Analyse erfüllt die Steuerungsanforderungen moderner 3D-Halbleiterstrukturen und unterstützt vielfältige Prozessanforderungen.
Hersteller / KlassifizierungHerstellunternehmen: HORIBA STEC, Co., Ltd.
Segment: Halbleiter
Division: Trockenprozesssteuerung
Eigenschaften / Technische Daten- Gemessenes Gas Beispiel: Siliciumtetrafluorid (SiF4) — Partialdrucküberwachung in Gasgemischen
- Messprinzip: Infrared Laser Absorption Modulation (IRLAM™)
- Empfindlichkeit: Messung von Spurgasen auf ppb-Niveau (IRLAM-Fähigkeit)
- Ansprechzeit: ca. 0,1 s
- Hauptanwendung: Echtzeit-Endpunktdetektion während Ätzprozessen
- Funktionalität: Mehrkomponenten-Gasanalyse, schnelle Reaktion für Prozessüberwachung
- Geplanter Einsatz: Advanced-Logic-Halbleiterfertigung; Nicht-Plasma-Anwendungen