Automatische Beschichtungsmaschine PECVD (SiNx)
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Eigenschaften
- Merkmal
- automatisch
Beschreibung
Mit dieser Maschine wird die Oberfläche von kristallinen Siliziumwafern mit einer Antireflexbeschichtung versehen, um die Reflexion zu verringern und so den Wirkungsgrad der Zellen zu maximieren.
Spezifikation
Hoher Durchsatz: 6.776 Wafer/Stunde (640 Wafer/Boot)
Zykluszeit: 34 Minuten
Betriebszeit: 97%
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