Elektronenstrahlquelle UNI-Bulb®

UNI-Bulb RF-Plasmaquelle für Sauerstoff, Stickstoff und Wasserstoff Optimierung der Produktion von elektronischen und optoelektronischen Geräten Mit der Uni-Bulb RF-Plasmaquelle von Veeco erhalten Sie optimale Bedingungen für das GaN-Wachstum von elektronischen und optoelektronischen Materialien sowie eine unerreichte Plasmastabilität und Reproduzierbarkeit. Einteiliges PBN-Gaseinlassrohr und Plasmakolben kombiniert mit einer doppelten koaxialen RF-Spule für eine hervorragende Leistungskopplung und Wärmeabfuhr. Verschiedene Designoptionen, einschließlich kundenspezifischer Blendenplatten, sind verfügbar, um die Leistung von GaNen zu verbessern. Beschreibung Ein Gasplasma ist ein effektives Werkzeug zur Umwandlung von hochstabilen Quellgasen wie N2 oder H2 in aktivere atomare und molekulare Spezies, die für das MBE-Wachstum geeignet sind. Die Veeco UNI-Bulb verfügt über ein patentiertes, einteiliges PBN-Gaseinlassrohr und eine Plasmakolben, um Gasleckagen um die Kolben herum zu vermeiden. Das resultierende Plasma ist sehr stabil und reproduzierbar und ermöglicht viele Stunden Laufzeit ohne Nachjustierung der Quelle. Austauschbare Blendenplatten sind in Konfigurationen mit unterschiedlicher Gasleitfähigkeit für das Wachstum von GaN, gemischten As/N-Materialien, Stickstoffdotierung, Wasserstoffreinigung und wasserstoffunterstütztem Wachstum erhältlich. Das Austrittslochdesign minimiert den Ionengehalt im Strahl, während die aktiven neutralen Spezies (atomar und molekular) auf das Substrat gerichtet sind. Kundenspezifische Blendenplatten mit hoher Uniformität sind für die meisten kommerziellen MBE-Systeme erhältlich und ermöglichen eine typische Uniformität von ±1%.