Wasserstrahlreinigungsanlage

manuellHochdruckvertikal

Die Hochdruck-Reinigungsanlage des Polymerisationskessels nutzt die kinetische Energie des Hochdruck-Wasserstrahls, um den harten Zunder an der Innenwand des Reaktionsgefäßes und der Oberfläche des Rührwerks aufzubrechen, abzuschälen und zu entfernen. (1) Teleskoparm-Positionierungsmechanismus: ① Vertikale Zuführung. Je nach den Spezifikationen der verschiedenen Polymerisationskesselgrößen können verschiedene Positionierungsmechanismen ausgewählt werden, um unterschiedliche vertikale Vorschubtiefen zu erreichen. Die vertikale Vorschubbewegung kann die Düse in jeder beliebigen Höhenposition für Reinigungsvorgänge anhalten. ② Neigung (Pitch). Zwischen der Positionierungsstange und dem Sockel befindet sich ein Drehpunkt, der um einen bestimmten Winkel relativ zur Achse des Polymerisationskessels gekippt werden kann, mit einer maximalen Neigung von 45°, um sicherzustellen, dass die Düse nahe an der Innenwand des Polymerisationskessels liegt. ③ Drehen. Der gesamte Positionierungsmechanismus kann relativ zur Innenwand des Polymerisationskessels gedreht werden, mit einem Drehwinkel von bis zu 150° Der manuelle Positionierungs- und Teleskopmechanismus der dreidimensionalen Rotationsdüse ist am Mannloch der Reaktionskammer installiert, und die Teleskopstange ragt in die Reaktionskammer hinein, was den Reinigungskopf bis zur gereinigten Oberfläche ausfahren, den Zielabstand verkürzen und einen Reinigungseffekt erzielen kann. Die Teleskopstange kann Hindernisse innerhalb der Reaktionszone während der Bewegung vermeiden. Die dreidimensional rotierende Düse ist am vorderen Ende der Teleskopstange installiert.