Röntgen-Photoelektronen-Spektrometer XPS
Laborfür Oberflächenbehandlungfür Spektroskopie

Röntgen-Photoelektronen-Spektrometer - XPS - Shimadzu France - Labor / für Oberflächenbehandlung / für Spektroskopie
Röntgen-Photoelektronen-Spektrometer - XPS - Shimadzu France - Labor / für Oberflächenbehandlung / für Spektroskopie
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Eigenschaften

Typ
Röntgen-Photoelektronen
Bereich
Labor, für Elementaranalysen, für Spektroskopie, für Forschung und Entwicklung, für Produktion, für Oberflächenbehandlung
Weitere Eigenschaften
hochauflösend, hochempfindlich, automatisiert

Beschreibung

Produktübersicht
Die Röntgen-Photoelektronen-Spektroskopie (XPS), auch als ESCA bekannt, ist eine etablierte Oberflächenanalysetechnik zur Charakterisierung von Werkstoffen. XPS liefert quantitative Informationen über Elemente und chemische Zustände aus den obersten ~10 nm eines Materials. Das Fotoelektronenspektrometer Kratos AXIS Nova erfasst XPS‑Spektren und Bilder von Materialien, die unter den für die Methode erforderlichen Ultrahochvakuumbedingungen stabil sind.

Leistung
Für effizienten Labor‑ und Produktionsbetrieb ausgelegt, verfügt das AXIS Nova über automatische Probenzuführung, orthogonale Kameras für schnelles Positionieren und eine intuitive Messsoftware. Die Probentisch‑Durchmesser von 110 mm erlaubt die Handhabung großer Proben und hohen Probendurchsatz, ohne die spektroskopische Empfindlichkeit, die Energieauflösung oder die räumliche Bildauflösung zu beeinträchtigen.

Hauptmerkmale
  • Sensitivity — Effiziente Sammlung von Photoelektronen für hohe Empfindlichkeit in Spektroskopie‑ und XPS‑Bildgebungsmodi.
  • Resolution — Hervorragende energetische Auflösung zur präzisen Messung kleiner chemischer Verschiebungen.
  • Simplicity — Verwendet die ESCApe‑Software für Erfassung, Verarbeitung und Reporting, konsistente Workflows über Kratos‑Instrumente hinweg.
  • Parallel XPS imaging — Ermöglicht die Abbildung der Element‑ und Chemieverteilung über Oberflächen.
  • Automation — Automatisierte Probenhandling‑Funktionen und vorgefertigte Workflows für hohen Durchsatz und Reproduzierbarkeit.
  • Additional capabilities — Erweiterbar; z. B. optionale UV He‑Discharge‑Lampe für UPS (Valenzband‑ und Austrittsarbeitsmessungen) und weitere Analyse‑Module.


Anwendungen (Auswahl)
  • Beschichtungen und Dünnfilme
  • Polymere und Oberflächenbehandlungen
  • Arn+ Gas‑Cluster‑Sputter Tiefenprofilierung von vernetzten Plasma‑Polymeren
  • Analyse von medikamentenbeschichteten Polymer‑Stents
  • Combinatorial Thin Film Systeme — Gruppen‑Array‑Analyse


Technische Daten
  • Technik: Röntgen-Photoelektronenspektroskopie (XPS) / ESCA
  • Abtieftiefe: Informationen aus den obersten ~10 nm des Materials
  • Probentisch‑Durchmesser: 110 mm (Handhabung großer Proben)
  • Probenhandling: automatische Probenzuführung
  • Positionierung: orthogonale Kameras für einfaches Ausrichten
  • Bildgebung: parallele XPS‑Bildgebung mit hoher räumlicher Auflösung
  • Empfindlichkeit & Auflösung: hohe Empfindlichkeit und exzellente energetische Auflösung
  • Software: ESCApe für Erfassung, Verarbeitung und Reporting
  • Optionen: UV He‑Discharge‑Lampe für UPS (Valenzband‑ und Austrittsarbeitsmessungen)
* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.