Röntgen-Photoelektronen-Spektrometer AXIS Supra+

Laborfür die Halbleiterindustriefür Spektroskopie

Übersicht
Der AXIS Supra+ ist ein Imaging Röntgen‑Photoelektronenspektrometer (XPS), das quantitative Informationen zu Elementen und deren chemischen Zuständen in den obersten ~10 nm der Materialoberfläche liefert. In Japan auch als Kratos Ultra 2 bekannt, vereint der AXIS Supra+ moderne spektroskopische und parallele Imaging‑Funktionen mit hoher Automatisierung und eignet sich für Routine‑ und Forschungsanwendungen auf Metallen, Halbleitern und Isolatoren.

Hauptmerkmale

• Empfindlichkeit: Hervorragende Empfindlichkeit in Spektroskopie‑ und XPS‑Imaging‑Modi für Oberflächen‑ und Spurenelementanalysen.
• Bedienbarkeit: Die ESCApe‑Software integriert Aufnahme, Verarbeitung und Automatisierung für effiziente Arbeitsabläufe.
• Paralleles XPS‑Imaging: Schnelles Imaging mit hoher räumlicher Auflösung zur Abbildung der lateralen Verteilung von Elementen und chemischen Zuständen.
• Auflösung: Hohe spektroskopische und bildgebende Auflösung für detaillierte Untersuchungen der Oberflächenchemie.
• Automatisierung: Umfangreiche Automationsfunktionen zur Steigerung von Durchsatz und Reproduzierbarkeit.
• Zusätzliche Techniken: Modulare Plattform, die mit ergänzenden Oberflächenanalyse‑ und Präparationsoptionen konfiguriert werden kann, ohne die XPS‑Leistung zu beeinträchtigen.

Anwendungen

• Analyse von Materialien für Batterien und Energiespeicher.
• Studien im Zusammenhang mit HAXPES (Hard X‑ray photoelectron spectroscopy).
• Charakterisierung von Beschichtungen und Dünnschichten.
• UPS‑XPS Tiefenprofiling von OLED‑Dünnschichten und anderen Schichten mittels Argon‑Cluster‑Sputtering.
• Quantifizierung der Schichtzusammensetzung in Verbindungshalbleitern und Mehrschichtmaterialien.

Dokumente verfügbar (ausgewählte Applikationshinweise)

• Kombiniertes Argon‑Cluster UPS‑XPS Tiefenprofil einer OLED‑Dünnschicht (Applikationshinweis).
• Quantifizierung der Schichtzusammensetzung in Verbindungshalbleitern (Applikationshinweis).
• Beseitigung von Überlappungen Core‑Line/Auger‑Peak durch Verwendung unterschiedlicher Photonenenergien (Applikationshinweis).

Technische Daten

• Marke: Shimadzu
• Modellname: AXIS Supra+
• Alternative Bezeichnung: Kratos Ultra 2 (Japan)
• Gerätetyp: Imaging X‑Ray Photoelectron Spectrometer (XPS)
• Analysebereich: Oberste ~10 nm der Materialoberfläche
• Techniken: XPS mit spektroskopischen und parallelen Imaging‑Modi; unterstützt UPS‑XPS Tiefenprofiling mit Argon‑Cluster‑Sputtering
• Imaging: Paralleles XPS‑Imaging mit hoher räumlicher Auflösung zur lateralen chemischen Kartierung
• Empfindlichkeit & Auflösung: Konzipiert für ausgezeichnete Empfindlichkeit und hohe spektroskopische sowie bildgebende Auflösung
• Software: ESCApe für integrierte Aufnahme, Verarbeitung und Automationssteuerung
• Probenkompatibilität: Metalle, Halbleiter, Isolatoren und verschiedene Dünnfilme/Beschichtungen
• Modularität: Konfigurierbar mit zusätzlichen Oberflächenanalyse‑ und Präparationsoptionen ohne Beeinträchtigung der XPS‑Leistung