·RTR vertikale „U“-förmige Volltauchvorrichtung, kein Pool-Effekt.
·Niederspannungs-Steuerungssystem, das Deformationen durch Filmdehnung reduziert; keine Spannung im Galvanisierungsbadbereich.
·Die patentierte Anodensprühbox ermöglicht in Kombination mit inerten, DSA-unlöslichen, segmentierten Anoden einen schnellen Austausch der Chemikalien.
·Reduzierung des Verbrauchs an Badchemikalien und des Abwasseraufkommens.
·Hohe Stromdichte von 0,5–4 ASD, wodurch die Galvanisierungszeit verkürzt wird.
·Längere Lebensdauer der Elektrolyte.
·Längere Lebensdauer der Anode.
·Automatische Anpassung der Galvanisierungsparameter und der Kurvengrafik sowie des Gleichrichters zur Erzielung einer konstanten Stromdichte. Gleichzeitiger Betrieb von Kleinserien- und Mehrserien-Typen.
·Der abgedichtete Innenraum der Galvanisierungskammer reduziert den Lüftungsbedarf um bis zu 90 % und minimiert Wärmeverluste. Dadurch werden die Stromkosten erheblich gesenkt.
·Der extrem geringe Materialwiderstand am Ein- und Auslass des Tauchbeckens dichtet die Flüssigkeitskanäle ab, wodurch der Mitreißanteil, der Aufwand für die Abfallbehandlung, der Wasserverbrauch und der Chemikalienverbrauch reduziert werden. Dank der Konstruktion wird das Risiko von Markierungen oder Materialbeschädigungen ausgeschlossen.
·Die horizontale und vertikale „U“-Galvanisierung verringert das Risiko der Anhaftung von Kupferpartikeln an der Oberfläche und erhöht die Ausbeute.
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