PVD-Auftragsmaschine CsI950

Arc-verdampfungfür MetallfilmVakuum

Absetzungs-System des Hochvakuum-CsI950 ist ausschließlich für CsI und TII-Aufdampfen auf Szintillationsschirmen in einer extrem Hochvakuumumwelt bestimmt. Die CsI-scintillators 200~600µm in den Stärkestrecken mit hoher Einheitlichkeit der Stärke- und Helligkeitsleistung: Ultra- hohe Ortsauflösung der Darstellung; Schnelle Antwort für schärfere Darstellung; Führende Rand-zurandbildflächen der Klasse; Optisch absorbieren Sie Schichten oder Reflektorschichten; Niedrige geduldige Röntgenstrahldosis. Substrate angewandt: TFT-Glas, Faser-Optikplatte, Formlos-Kohlenstoffplatte, Aluminiumplatte Anwendung: für Sicherheitskontrolle und Inspektion, Hochenergiephysikausbildung, Kern-radiaton Entdeckung und medizinische Bildgebungen: Kastenprüfung, mamography, zahnmedizinisches Inter- Mund- und panoramisch. Technische Vorteile Königliche Technologie liefert die Maschine mit 2 Modellen: CsI950 und CsI950A+ Dem vorbildlichen CsI950A+ wird basiert auf der 1. Generation CsI950, seine Vorteile aktualisiert: 1. Leistungsfähigkeit - CsI-950A+ Modell ist mit dem Dreh2 gestellaufbau, der auf Generation - ein Modell CsI-950 basiert. - Doppel-Kapazität für max. Größensubstrat: 500 x400mm.