Keramikplatte

Isolation

Hochreine Aluminiumoxid-Keramik ( Al203:>99,7%) - Aluminiumoxid-Wafer-Polierplatte / Drehtisch -Großformatige, hochreine Aluminiumoxid-Basisplatte für LCD-Fertigungsanlagen Material: Hochreine Tonerde Al203:>99,7% Bewerbung: Halbleiter, Erdöl, Chemie, Photovoltaik. LCD usw. Industrien" als mechanische Teile, elektronische Teile, Mikrovvave-Induktionsscheibe, Isolierteile. Wie z.B. Herstellung von Halbleiterbauelementen, Vakuumausrüstung, Flüssigkristall-Herstellungsausrüstung und andere Komponenten. Zum Beispiel die große Größe der hochreinen Aluminiumoxid-Keramik Wafer-Polierplatte / Tum-Tisch ist ein wichtiger Bestandteil der CMP in der chemisch-mechanischen Polieren, die Aluminiumoxid-Basisplatte für LCD. Merkmale: Hochreiner AI2O3 99,7% -99,9% Hohe mechanische Festigkeit Hohe Abriebfestigkeit Hohe elektrische Isolierung Hohe chemische Beständigkeit Gute Hitze- und Korrosionsbeständigkeit Hersteller-Vorteil : Wir verfügen über unabhängiges geistiges Eigentum des PIBM Spontanverfestigungssystems. Wir produzieren professionell hochwertige Feinkeramikkomponenten. Die neue Technologie durchbricht die Verformungs- und Rissprobleme von großformatigen keramischen Vvet-Rohlingen im Präparationsprozess. und die Produktleistung wird für die mit traditionellen Methoden hergestellten großformatigen Keramikteile erheblich optimiert. Chemshun Ceramics' Tonerde-Keramik-Saphir-Läpp-Polieren von Wafern wird als PIBM-Produktionsprozess geformt. Es ist eine interntionale fortschrittliche Technologie. PIBM lösen erfolgreich das Schlüsselproblem der Rissbildung und Verformung von großformatigen Aluminiumoxidkeramiken und eröffnen ein weiteres Fenster der Feinkeramik.