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Magnetron-Sputter-Auftragsmaschine PEROvap
PVD durch thermisches VerdampfenionenstrahlgestützteDünnschicht

Magnetron-Sputter-Auftragsmaschine
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Eigenschaften

Technologie
Magnetron-Sputter, PVD durch thermisches Verdampfen, ionenstrahlgestützte
Art der aufgebrachten Schicht
Dünnschicht
Weitere Eigenschaften
Vakuum
Anwendung
für die Mikroelektronik, für Photovoltaikanwendung

Beschreibung

Speziell entwickelt für Perowskites • Ideales Werkzeug für effiziente Forschung & Entwicklung • Spezielles Systemdesign • Spezielle Vorläuferquelle • Hohe Stabilität bei niedrigen Temperaturen • Stabiler und definierter Depositionsprozess • Hochvakuumbedingungen • Geringes Übersprechen • Hohe Wiederholgenauigkeit • Materialverträglichkeit für eine sehr lange Lebensdauer • Patent angemeldet
* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.