Magnetron-Sputter-Auftragsmaschine UNIvap

PVD durch thermisches VerdampfenionenstrahlgestützteDünnschicht

• Eigenständiges System • Kompakte und kostengünstige Lösung • Einfaches Konfigurationsdesign • Co-Deposition ist möglich • Gleichmäßigkeit bis zu +/-3 % (bei spezifischem Geometriedesign bis zu +/1 %) • Zwei Standardgrößen: UNIvap 4S und UNIvap 5S • Bis zu 8 Depositionsquellen möglich • Substratgröße bis 100x100 mm oder Durchmesser 100 mm (4") für UNIvap 4S • Substratgröße bis 150x150 mm oder Durchmesser 150 mm (6") für UNIvap 5S • OLEDs / Organische Elektronik • Organische Photovoltaik-Zellen