XY-Positioniertisch XY-OF-300x300J

drehbarmotorisiertelektrisch

Beschreibung
XY-Rotationsbühne mit offenem Rahmen, flache Bauhöhe, konzipiert für die Handhabung von Wafern und präzise automatisierte Positionieraufgaben in der Halbleiterfertigung. Seitlich angeordnetes XY-Antriebssystem und großes zentrales Durchgangsloch auf der Drehplatte ermöglichen ungehinderten Zugang zum Wafer von beiden Seiten. System konfigurierbar mit verschiedenen Öffnungen und Verfahrwegen.

Hauptspezifikationen

• XY-Bühnenmodell: XY-OF-300x300J
• Rotationsbühnenmodell: ACR-335UT
• Öffnung: 335 mm
• Verfahrweg (X × Y): 300 × 300 mm
• Rotation: unbegrenzt
• Lineare Auflösung: Standard 5 µm; optional 1 µm (mit Linearcoder)
• Drehauflösung: 1 arc-sec
• Tragfähigkeit: 20 kg
• Durchgangsloch (open center): 20 mm
• Geschwindigkeit: bis zu 40 m/s (Schrittmotor), bis zu 80 m/s (Servo)
• Drehzahl: 100 rpm
• Antrieb (XY): Kugelgewindetrieb
• Antrieb (Rotation): Direct drive
• Motoroptionen: Schrittmotor, Servo, mit Encoder

Leistung und Optionen

• Präzises Positionieren mit optionalem 1 µm Linearcoder
• Unbegrenzte Rotation mit 1 arc-sec Auflösung für feine Winkeljustagen
• Wählbare Motor- und Antriebskonfigurationen je nach Geschwindigkeits- oder Drehmomentanforderung
• Anpassbare Öffnung und Verfahrwege für unterschiedliche Wafergrößen und Prozesswerkzeuge

Anwendungen

• Wafer-Handling und Lithographie-Ausrichtung in Reinräumen
• Präzisionsmontage, Inspektion und Messtechnik
• Automatisierte Pick-and-Place- und Prüfanlagen

Bestellinformation
Die Standardkonfiguration enthält die aufgeführten Modelle und Antriebe. Kontaktieren Sie den Anbieter für kundenspezifische Öffnungen, Verfahrwege, Encoder‑Optionen und Integrationsunterstützung.