Massendurchflussregler GR-511F

für Gas

Der GR-511F kann Gase steuern, die zur Kühlung der Rückseite von Wafern verwendet werden, die durch ein elektrostatisches Chuck-System fixiert sind. Dank seiner Stabilität und Genauigkeit ist der GR-511F ideal für die Steuerung des Helium- und Argonflusses in Wafer-Kühlsystemen. MERKMALE Druckregelung mit höherer Stabilität und Genauigkeit Massendurchflusssensor (Option) Kompatibel für verschiedene Fittings RoHS-Konformität Anwendungsbeispiel Im folgenden Beispiel steuert der GR-511F die Gase, die zur Kühlung der Rückseite von Wafern verwendet werden, die durch ein elektrostatisches Chuck-System fixiert sind. ventiltyp - C: Normalerweise geschlossen Lecksicherheit - ≤ 7 × 10-11 Pa-m3 /s (He) Maximaler Betriebsdruck - 300 kPa (A) Druckbeständigkeit - 350 kPa (A) Betriebstemperatur - 5-50 °C (Garantierte Temperaturgenauigkeit: 15-40 °C) Spannungsversorgung - +15 VDC±5 %, 250 mA -15 VDC±5 %, 250 mA Leistungsaufnahme - 7,5 VA Schnittstelle - Analog Gas *1 - He, Ar, N2 Standardanschlüsse - 1/4 Zoll VCR oder gleichwertig Skalenendwert Druck - 1.333 kPa (A) (10 Torr), 2.666 kPa (A) (20 Torr), 6.666 kPa (A) (50 Torr) Druckregelbereich - 1-100 %F.S. Druckgenauigkeit *2 - ±0,5 %R.S. Nullpunkt-Temperaturkoeffizient - ±0,04 %F.S./°C Messspannen-Temperaturkoeffizient - ±0,04 %R.S./°C Ansprechzeit *3 - ≤ 1 sec Druckeinstellsignal - 0,1-10 VDC (1-100 %F.S.) Eingangsimpedanz ≥ 1 MΩ Option:0,05-5 VDC (1-100 %F.S.) Eingangsimpedanz≥ 1 MΩ Druckausgangssignal - 0-10 VDC (0-100 %F.S.) Mindestwiderstand 2 kΩ Option:0-5 VDC (0-100 %F.S.) Mindestwiderstand 2 kΩ