Massendurchflussregler GR-511F
für Gas

Massendurchflussregler
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Eigenschaften

Technologie
Massen
Flüssigkeit
für Gas
Druck

3 bar, 4 bar
(44 psi, 58 psi)

Beschreibung

Der GR-511F kann Gase steuern, die zur Kühlung der Rückseite von Wafern verwendet werden, die durch ein elektrostatisches Chuck-System fixiert sind. Dank seiner Stabilität und Genauigkeit ist der GR-511F ideal für die Steuerung des Helium- und Argonflusses in Wafer-Kühlsystemen. MERKMALE Druckregelung mit höherer Stabilität und Genauigkeit Massendurchflusssensor (Option) Kompatibel für verschiedene Fittings RoHS-Konformität Anwendungsbeispiel Im folgenden Beispiel steuert der GR-511F die Gase, die zur Kühlung der Rückseite von Wafern verwendet werden, die durch ein elektrostatisches Chuck-System fixiert sind.

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ACHEMA 2024
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10-14 Juni 2024 Frankfurt am Main (Deutschland)

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