Perfekt für die Kontrolle der Güllekonzentration
Die Verdünnung des Slurrys lässt sich effektiv konstant halten. Die Aufrechterhaltung eines angemessenen Leitfähigkeitswertes trägt zur Prozessstabilität im Wafer-Polierprozess bei. Selbst hochviskose Probenflüssigkeiten wie CMP-Slurry können problemlos gemessen werden, da eine Sensorstruktur verwendet wird, die das Risiko des Anhaftens der Probenflüssigkeit an den Elektroden verringert. Darüber hinaus besteht der Sensor aus einem benetzten Material mit hervorragender chemischer Beständigkeit, das die Reinheitsanforderungen von Halbleiterprozessen erfüllt. Darüber hinaus kann er auch für die Einführung in der Entwicklungsphase von Halbleiterprozessen und die Leitfähigkeitskontrolle von Spezialchemikalien verwendet werden.
Hohe Genauigkeit / Hohe Stabilität
Messbereich : 0 bis 2.000 μS/cm , 0 bis 10.000 μS/cm
Reproduzierbarkeit: ± 0,5% F/S , ± 1,0% F/S
Frei von Metallverschmutzung
Da für das Elektrodenmaterial Spezialkohle verwendet wird, muss man sich keine Sorgen über die Ausschwemmung von Metallverunreinigungen machen.
Ausgestattet mit Konzentrationsumrechnungsfunktion
Durch Eingabe des Verhältnisses zwischen der chemischen Konzentration und der Leitfähigkeit sowie der Temperaturmerkmale sind zwei Arten der Konzentrationsumrechnung möglich.
Sie eignet sich besonders für die Verdünnungssteuerung von Chemikalien mit niedriger Konzentration.
Platzsparend
Durch die Verkleinerung unseres konventionellen Leitfähigkeitssensors wird der Freiheitsgrad bei der Installationsplanung verbessert.
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