Fokussiertes Ionen Strahl System NX5000

Unübertroffene Leistung mit ultimativer Flexibilität Das Hitachi Ethos FIB-SEM ist ein FE-SEM der neuesten Generation mit hervorragender Strahlhelligkeit und Stabilität. Ethos liefert hochauflösende Bilder bei niedrigen Spannungen in Kombination mit Ionenoptik für die Präzisionsbearbeitung im Nanobereich. Leistungsstarke FE-SEM-Säule mit Doppellinsenmodus - Ultrahochauflösende Beobachtung (HR-Modus: semi-in-lens) - Hochpräzise Endpunktdetektion in Echtzeit (FF-Modus: Field Free (Time-Sharing-Modus)) Materialverarbeitung mit hohem Durchsatz - Ultraschnelle Verarbeitung mit hoher Ionenstromdichte (Max. Strahlstrom: 100 nA) - Benutzerprogrammierbares Skript für automatische Verarbeitung und Beobachtung Mikro-Probenentnahme-System - Vollständig integrierte Probenausrichtungssteuerung für Anti-Curtaining-Effekt (ACE-Technologie) - TEM-Probenpräparation für gleichmäßige Lamellen in beliebiger Ausrichtung Triple-Beam-fähig, liefert Ergebnisse von höchster Qualität - Edelgas-Ionenstrahl-Materialbearbeitung mit niedriger Beschleunigung - Innovative Funktionen reduzieren ga-ionenbedingte und andere Fräsartefakte Große Multi-Port-Kammer und Tisch für verschiedene Anwendungen - System für große Probengrößen mit außergewöhnlicher Tischstabilität - Verbesserte Langstreckennachführung über den gesamten Bereich (155 x 155 mm) Ausgefeilte Elektronenoptik und Multi-Signal-Detektion Die Ethos SEM-Säule besteht aus einem Verbundobjektivsystem mit magnetischem und elektrostatischem Feld, das in zwei Linsenmodi konfiguriert ist. Der Modus High Resolution (HR) ermöglicht die Beobachtung von Proben mit höchster Auflösung, indem die Probe in das Magnetfeld des Linsensystems getaucht wird. Der Modus Field Free (FF) bietet FIB-Verarbeitung in Echtzeit für hochgenaues Endpunktfräsen.