Fokussiertes Ionen Strahl System NX2000

Fokussiertes Ionen Strahl System - NX2000 - Hitachi High-Tech Europe GmbH
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Beschreibung

NX2000 ist ein für Halbleiteranwendungen optimiertes FIB-SEM (Defektanalyse mit KLARF-Koordinatenimport, TEM-Lamellenextraktion, Bauelementeentwicklung). Mit 205 x 205 mm X,Y-Verfahrweg erlaubt der Probentisch sogar die vollflächige Bearbeitung von 200 mm-Wafern ohne Probendrehung. Die vertikal montierte Ga-FIB erlaubt bis zu 100nA Ionenstrom bei 30 kV. Die FE-SEM-Säule ist mit einem Kaltfeldemitter ausgestattet.

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Focused Ion Beam Systems

* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.
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