PVD-Auftragsmaschine LTMC

CVDVakuum

Übersicht
Die LTMC-Anlage verwendet Niedertemperatur-Plasma-Chemical-Vapor-Deposition (PCVD) zur Ausbildung einer metall-keramischen Diffusionsschicht auf Metallkomponenten. Im Vakuum und unter 150°C aktiviert das Plasma prozessgasführende Silizium-, Bor- und Stickstoffverbindungen, die mit der Substratoberfläche reagieren und in diese diffundieren, sodass eine graduierte Verbundkeramikschicht entsteht, die die Oberflächenhärte erhöht und festschmierfähige Phasen bildet.

Leistungsübersicht

• Kammervolumen: 3,4 m³
• Effektiver Bearbeitungsbereich: 1.200 × 1.100 × 550 mm
• Maximale Beladung: 3.000 kg
• Typische Prozessdauer: 3–5 Stunden (abhängig von Werkstück und Parametern)
• Betriebstemperatur: unter 150°C

Hauptvorteile der LTMC-Technologie

• Niedertemperatur-Oberflächenhärtung: Erhöht die Oberflächenhärte bei begrenzten thermischen Auswirkungen auf das Substrat, geeignet für dünnwandige und präzise Bauteile.
• Keramische Diffusionsbindung: Si, B und N bilden keramische Phasen, die ~10–20 μm tief diffundieren und eine graduierte, haftstarke verschleißfeste Schicht erzeugen.
• Selbstschmierende Oberfläche: Bildung von Phasen wie hexagonalem Bornitrid liefert Festschmierung zur Reibungsreduzierung bei gleichzeitigem Erhalt der Härte.
• Innen- und Außenflächenbehandlung: Einstellbare Elektrodenformen ermöglichen die Behandlung innerer Wandungen und dünnwandiger Komponenten.

Anwendungen und kompatible Werkstoffe

• Typische Anwendungen: Zylinderlaufbuchsen, Kolbenringe, Schneidwerkzeuge, Werkzeugeinsätze, Nockenwellen, Kipphebel, Lager, Zahnräder und ähnliche verschleißrelevante Bauteile.
• Behandelbare Werkstoffe: Stähle, Titanlegierungen, Aluminiumlegierungen, Hartmetall (getestete Beispiele: 20CrNiMo, TC17, YG6, reines Kupfer).

Prozess- und Funktionsdetails
LTMC nutzt Niedertemperatur-PCVD: Das Plasma aktiviert reaktive Gase (mit Si, B und N), welche keramische Phasen bilden, die in die oberflächennahe Region bis etwa 10–20 μm diffundieren und so eine graduierte Verbundschicht mit verschleißfesten und selbstschmierenden Eigenschaften erzeugen.

Produktparameter
Ausrüstung: LTMC Low Temperature Metal Ceramic Coating Equipment
Prozesstechnologie: Low Temperature Plasma Chemical Vapor Deposition (PCVD)
Kammervolumen: 3,4 m³
Effektiver Bearbeitungsbereich: 1.200 × 1.100 × 550 mm
Maximale Beladung: 3.000 kg
Ausrüstungsmaße (L × W × H): 8.770 × 5.100 × 2.320 mm
Keramikbildende Elemente: Silizium, Bor, Stickstoff
Prozessgase: N2 / SiH4 / B2H6
Keramik-Diffusionstiefe: 10–20 μm
Gaskontrollmodi: Kammerdruckregelung oder Durchflussregelung
Vakuumpumpenkonfiguration: Drehschieberpumpe + Roots-Pumpe
Förderleistung: 1.200 m³/h
Typische Prozesszeit: 3–5 Stunden
Betriebstemperatur: unter 150°C

Ausgewählte FAQ

• Wofür wird LTMC verwendet? — Niedertemperatur-metall-keramische Diffusionsbehandlung zur Verbesserung der Oberflächenhärte, Verschleißfestigkeit und selbstschmierenden Eigenschaften für Bauteile wie Laufbuchsen, Lager, Zahnräder, Schneidwerkzeuge und Formen.
• Wie hoch ist die Verarbeitungstemperatur? — Unter 150°C (max. Arbeitstemperatur 150°C).
• Welche Werkstoffe sind behandelbar? — Stahl, Titanlegierungen, Aluminiumlegierungen, Hartmetall (z. B. 20CrNiMo, TC17, YG6, reines Kupfer).
• Können Innenwände und dünnwandige Teile behandelt werden? — Ja. Elektrodenformen sind anpassbar für Innenwand- und Dünnwandbehandlungen (z. B. 1,5 mm dünnwandige Buchsen).
• Wie hoch ist die maximale Beladung? — 3.000 kg; effektiver Bereich 1.200 × 1.100 × 550 mm; Kammervolumen 3,4 m³.

Technische Daten

• Serie / Name: LTMC
• Prozess: Low Temperature Plasma Chemical Vapor Deposition (PCVD)
• Kammervolumen: 3,4 m³
• Effektiver Bearbeitungsbereich: 1.200 × 1.100 × 550 mm
• Maximale Beladung: 3.000 kg
• Ausrüstungsmaße: 8.770 × 5.100 × 2.320 mm
• Betriebstemperatur: unter 150°C
• Typische Zykluszeit: 3–5 Stunden (abhängig von Werkstück und Einstellungen)
• Keramikbildende Elemente: Silizium, Bor, Stickstoff
• Prozessgase (Beispiele): N2 / SiH4 / B2H6
• Diffusionstiefe der Keramik: 10–20 μm
• Gaskontrolle: Kammerdruckregelung oder Durchflussregelung
• Vakuumsystem: Drehschieberpumpe + Roots-Pumpe
• Förderleistung: 1.200 m³/h
• Behandelbare Materialien: Stahl, Titanlegierungen, Aluminiumlegierungen, Hartmetall
• Fähigkeiten: Innen- und Außenflächenbehandlung, Verarbeitung dünnwandiger Bauteile, anpassbare Elektrodenformen