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Reinigungslösemittel
für Gravurrückstände

Reinigungslösemittel - Fujifilm NDT Systems - für Gravurrückstände
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Eigenschaften

Funktion
Reinigung
Einsatz
für Gravurrückstände

Beschreibung

Wässrige Post-Etch-Reiniger, die mit Aluminium, Kupfer und modernen Metalllegierungen, Antireflexionsschichten, SiO2 und Ultra-Low-K-Dielektrika kompatibel sind Hochwirksame wässrige Nachätzreiniger, die mit Al-, Cu- und Ultra-Low-k-BEOL-Verfahren kompatibel sind. Merkmale und Vorteile Großer Prozessspielraum Kompatibel mit Sprüh- und Batch-Tool-Anwendungen Kostenvorteil gegenüber lösungsmittelbasierten Reinigern - Direkte DI-Wasser-Spülung Eliminiert zusätzliche Kosten für Spülchemikalien und erhöht den Durchsatz durch den Wegfall chemischer Schritte Sicher und einfach in der Anwendung Kompatibel mit modernen Werkstoffen für Prozessanlagen Hervorragende Kompatibilität mit Metallen, ILD und ULK Die Produktreinheit wird durch den Einsatz modernster Analyseinstrumente kontinuierlich überprüft Hergestellt und verpackt in Werken in den USA und Asien Verschiedene Qualitäten je nach Ätzmitteltyp Bestimmte Produkte werden mit oder ohne Tensid angeboten Siehe unsere Anwendungsübersicht für die verschiedenen Ätzmitteltypen Verpackungs-Optionen: 4 x 4L-Flaschen 200L Fässer (Einweg oder Mehrweg) 1000-Liter-Behälter (Einweg oder Mehrweg) Bulk-Lieferung (abhängig vom Standort)

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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.