Der FemtoLux 3 ist ein moderner Femtosekunden-Faserlaser, der sowohl für Forschung und Entwicklung als auch für die industrielle Integration konzipiert ist. Er liefert eine Ausgangsleistung von 3 W und ermöglicht die Optimierung der Laserparameter für Anwendungen wie das Markieren und Strukturieren von transparenten Materialien, die Photopolymerisation, die biologische Bildgebung, die nichtlineare Mikroskopie und mehr.
Eigenschaften- Bei 1030 nm: typische Ausgangsleistung von 3 W, bis zu 3 μJ/Impuls und 10 μJ/Burst
- Bei 515 nm: typische Ausgangsleistung von 1,2 W, bis zu 1,2 μJ/Impuls und 5 μJ/Burst
- < 300 fs … 5 ps einstellbare Pulsdauer
- M² < 1,2
- Vielseitige Lasersteuerungs- und Synchronisationsfähigkeiten
- Bis zu 10 MHz Pulswiederholrate
- Intelligente Triggerung für synchronen Betrieb mit Polygon-Scanner und PSO
- Sofortige Amplitudensteuerung
- Passive Luftkühlung des Laserkopfes
- 24/7 Betrieb
Anwendungen- Innenvolumenmarkierung von transparenten Materialien
- Markieren und Strukturieren
- Mikrobearbeitung von spröden Materialien
- Photopolymerisation
- Ophthalmologische Chirurgie
- Biologische Bildgebung
- Pumpen von Femtosekunden-OPO/OPA
- Mikroskopie
Der FemtoLux 3 bietet eine einstellbare Pulsdauer von 300 fs bis 5 ps, eine einstellbare Pulswiederholrate von bis zu 10 MHz und eine einstellbare Pulsenergie von bis zu 3 μJ, was eine Optimierung für eine Vielzahl von Anwendungen ermöglicht. Der Laser kann mit einem zweiten Harmonischen Modul ausgestattet werden, um seinen Anwendungsbereich weiter zu erweitern. Mit aktiviertem Burst-Modus kann er Bursts von Impulsen mit einer Energie von über 10 μJ erzeugen, was die Prozesseffizienz erheblich verbessert. Sein starrer, kompakter und passiv luftgekühlter Laserkopf ermöglicht die Integration mit verschiedenen Geräten für die Materialmikrobearbeitung, Mikroskopie oder andere Forschungszwecke.
Spezifikationen- Zentrale Wellenlänge: 1030 nm (fundamental), 515 nm (mit zweiter Harmonischer Option)
- Minimale Pulsdauer (FWHM) bei 1030 nm: < 300 fs (typisch ~230 fs)
- Pulsdauer-Einstellbereich: 300 fs – 5 ps
- Maximale durchschnittliche Ausgangsleistung: > 3 W bei 1030 nm, > 1,2 W bei 515 nm
- Langzeitstabilität der Leistung (Std. dev.): ≤ 0,5 %
- Maximale Pulsenergie: > 3 µJ bei 1030 nm, > 1,2 µJ bei 515 nm
- Pulsenergiestabilität (Std. dev.): < 2 %
- Pulswiederholrate (PRR): 1 – 10 MHz
- Pulswiederholfrequenz (PRF) nach Frequenzteiler: PRF = PRR / N, N=1, 2, 3, … , 65000; Einzelschuss
- Externe Pulsgating: über TTL-Eingang
- Burst-Modus: 1 – 10 Impulse
- Maximale Burst-Energie: > 10 µJ bei 1030 nm, > 5 µJ bei 515 nm
- Burst-Formsteuerung: über analogen Eingang
- Leistungsdämpfung: 0 – 100 % von der Fernsteuerungsanwendung oder über analogen Eingang
- Polarisation Orientierung: linear, vertikal
- Polarisation Extinktionsverhältnis: > 1000:1
- M²: < 1,2
- Strahldivergenz (Vollwinkel): < 1,0 mrad
- Strahl Elliptizität (Fernfeld): > 0,85
- Strahlzeigerstabilität (pk-to-pk): < 30 µrad
- Strahldurchmesser (1/e²) bei 20 cm vom Laserausgang: 2,0 ± 0,3 mm bei 1030 nm, 1,0 ± 0,2 mm bei 515 nm
- Kühlung des Laserkopfes: Luft, passiv
- Größe des Laserkopfes (L×W×H): 459,5 × 362 × 111 mm bei 1030 nm, 615,3 × 362 × 139 mm bei 515 nm
- Größe der Stromversorgungseinheit (L×W×H): 496 × 483 × 184 mm (stand-alone), 548 × 483 × 184 mm (19″ rack-montierbar)
- Länge des umbilical: 5 m
- Netzanforderungen: 100 – 240 V AC, einphasig 47 – 63 Hz
- Maximaler Stromverbrauch: < 500 W
- Betriebstemperatur: 15 – 30 °C
- Relative Luftfeuchtigkeit: 10 – 80 % (nicht kondensierend)
- Luftverschmutzungsgrad: ISO 9 (Raumluft) oder besser
- Klassifizierung nach EN60825-1: LASERPRODUKT DER KLASSE 4