CVD-Auftragsmaschine Voyager PIB-CVD

SputterDünnschichtoptisch

Das Voyager PIB-CVD ist ein plasmaionenstrahlgestütztes chemisches Gasphasenabscheidungssystem (PIB-CVD), das auf der filamentfreien Endeavor RF-Ionenquelle basiert. Diese patentierte Ionenquelle ist so konzipiert, dass sowohl die Ionenstromdichte als auch die Ionenenergie über einen weiten Bereich unabhängig voneinander gesteuert werden können, was die Herstellung von Mehrlagenschichten mit hoher Abscheiderate ermöglicht. Sie ist in der Lage, Beschichtungen mit hoher Rate und hoher Qualität bei niedriger Temperatur (unter 100 °C) abzuscheiden, was sie mit typischen Kunststoffsubstraten wie Polycarbonat (PC) und Polymethylmethacrylat (PMMA) kompatibel macht. Die Voyager PIB-CVD-Anlage wurde mit Schwerpunkt auf diamantähnlichen Nanokompositen (DLN) entwickelt, um die klassenbeste Flexibilität für die Beschichtung von ebenen (z. B. Siliziumwafern) und dreidimensionalen Teilen (z. B. optischen Linsen) zu bieten. Das System ist mit dem Process Pro-Steuerungssystem von Denton konfiguriert, das eine automatische und manuelle Prozesssteuerung ermöglicht. Darüber hinaus gibt es eine optionale proprietäre Kammerkonfiguration, die das Co-Sputtern während der DLN-Beschichtung für DLN-Schichten (Me-DLN) ermöglicht. Diese Konfiguration ist einzigartig in der Branche und eröffnet das Potenzial, neuartige DLN-Schichten mit maßgeschneiderten mechanischen, elektrischen und tribologischen Eigenschaften zu entwickeln. Die Voyager PIB-CVD-Plattform bietet diamantartige Nanokomposit-Schichten (DLN) für: Flexible und kratzfeste Displays Verschleißschutzschichten für medizinische und kommerzielle Produkte IR-transparente Schutzschichten Hydrophobe Beschichtungen