ÜbersichtDas Gasboard-2060 ist ein leistungsfähiger SiF4-Gassensor, der für die Echtzeit-Erkennung des Endpunkts der Kammerreinigung (EPD) in siliziumbasierten CVD-Abscheidekammern entwickelt wurde. Basierend auf der nichtdispersiven Infrarot-Technologie (NDIR) und einer speziell gestalteten Gaskammer liefert er eine hochselektive und präzise Messung der SiF4-Konzentration bei Reinigungsprozessen von Halbleiterkammern. Das Gasboard-2060 überwacht die SiF4-Konzentration in Echtzeit und ermöglicht eine schnelle und präzise Anzeige des Reinigungsendpunkts, um Reinigungszeit und Gasverbrauch zu reduzieren, gleichzeitig den Kammerverschleiß zu minimieren und die Lebensdauer der Komponenten zu verlängern. Das modulare Design erleichtert die Installation und unterstützt Kalibrierungs- und Einstellfunktionen zur einfachen Integration und Wartung.
Merkmale- NDIR-Technologie für empfindliche und präzise SiF4-Messung.
- Schnelle Reaktion zur präzisen Bestimmung des Endpunkts der Kammerreinigung.
- Niedrige Nullpunktdrift und hohe Reproduzierbarkeit für konstante Messleistung.
- Modulares Design für einfache Systemintegration und Installation.
- Analoge und digitale Kommunikationsausgänge für flexible Schnittstellen.
SpezifikationenMessgröße: SiF4
Erkennungsprinzip: NDIR
Bereich: (0.0-0.2) Absorbance
Ansprechzeit: T90<2s
Datenmelderate: 0.5s
Analoger Ausgang: 1-10VDC
Stromversorgung: 15VDC (≤300mA), 24VDC
Digitale Kommunikation: RS232
Probenahmeanschluss: KF16
Abmessungen: 200×120×75.5mm
Leckrate: <1×10-8 Pa·m3/s (He)
Betriebstemperatur: (5~65) ℃
Technische Daten- Messgröße: SiF4
- Erkennungsprinzip: NDIR
- Bereich: (0.0-0.2) Absorbance
- Ansprechzeit: T90<2s
- Datenmelderate: 0.5s
- Analoger Ausgang: 1-10VDC
- Stromversorgung: 15VDC (≤300mA), 24VDC
- Digitale Kommunikation: RS232
- Probenahmeanschluss: KF16
- Abmessungen: 200×120×75.5mm
- Leckrate: <1×10-8 Pa·m3/s (He)
- Betriebstemperatur: (5~65) ℃