Vierpolige Spektrometer AKONIS

IMSProzessfür die Halbleiterindustrie

Vollautomatisiertes SIMS für die Halbleiterfertigung in großen Stückzahlen Das SIMS-Tool von AKONIS schließt eine kritische Lücke in der Halbleiterfertigung, indem es einen hohen Durchsatz und eine hochpräzise Erkennung von Implantatprofilen, Zusammensetzungsanalysen und Grenzflächendaten bietet, um die Großserienfertigung zu ermöglichen. AKONIS bietet einen sehr hohen Automatisierungsgrad, um die Wiederholbarkeit zwischen den Werkzeugen für die Prozesskontrolle auf Fabrikebene und die Abstimmung von Werkzeug zu Werkzeug zu gewährleisten. AKONIS ergänzt das IMS Wf/SC Ultra sowie das SIMS 4550 (Quadrupol-SIMS), das in der Halbleiterindustrie zur Unterstützung von Charakterisierungslabors eingesetzt wird, und ermöglicht durch die vollständige Automatisierung der Geräteeinstellung und der Erfassungsroutinen eine schnelle Analyse innerhalb der Fabrik ohne Kompromisse bei der analytischen Empfindlichkeit. AKONIS profitiert von der jüngsten Entwicklung der EXtremely Low Impact Energy (EXLIE)-Ionensäulentechnologie (< 150 eV), gekoppelt mit einem kompletten Wafer-Handling-System einschließlich eines hochauflösenden Tisches, der Messungen auf Pads bis zu 20 μm ermöglicht. Der Wegbereiter für hohe Ausbeute bei N5 und darüber hinaus Hochauflösende Zusammensetzung und schnelle Dotierungstiefenprofilierung von SiGe- und SiP-Mehrschichtstapeln Unerreichte Erkennungsgrenzen für Pads bis zu 20 μm Mehr als 97 % Zeitersparnis bei der Rückmeldung von Daten an die Prozesslinie Messung von Blanket- und strukturierten Vollwafern Mustererkennungsmodul gekoppelt mit einem hochauflösenden interferometrischen Tisch für eine Positionsgenauigkeit von < 2 μm Intuitive Rezepterstellung basierend auf einer einzigartigen Materialdatenbank SEMI-zertifiziert (S2/S8, E4, E5, E39, E84...) Niedrige Betriebskosten