PVA TePla Vakuumöfen

Maximaltemperatur: 0 °C - 2.200 °C
Kapazität: 4,5, 9,5, 180, 4.400, 2.250 l

Wärmebehandlungsanlagen der Baureihe COV sind besonders leistungsfähige Anlagen mit großem Arbeitstemperaturbereich. Sie sind durch den Einsatz verschiedenster Gase und aufgrund vollautomatisierter Prozeßabläufe speziell für den wirtschaftlichen ...

Maximaltemperatur: 1.600 °C
Kapazität: 400 l

Der SSH ist eine standardisierte Vakuum-Drucksinteranlage zur wirtschaftlichen Herstellung von Hartmetallteilen. Die Anlage vereint die Prozesse Entwachsen, Vakuumsintern und Drucksintern bis zu 60 bar. Basierend auf jahrelanger Erfahrung ...

Maximaltemperatur: 1.600 °C - 2.200 °C
Kapazität: 34 l - 338 l

Induktiv beheizte Vakuum-Wärmebehandlungsanlagen mit hohen Betriebstemperaturen speziell für die Hartstoffherstellung. Standardisierte Komponenten für ein breites Einsatzspektrum und Nutzraumvolumen von 34 bis 338 l. Applikationen: IOV-Anlagen ...

Maximaltemperatur: 2 °C - 2.000 °C
Kapazität: 0,1 l - 60 l

Bewährte und wirtschaftliche Lösung für das induktive Erschmelzen von Werkstoffen unter Vakuum-/Schutzgas-Atmosphäre und das anschließende Vergießen zu Blöcken oder Formteilen. Applikationen: Universeller Einsatz zum Schmelzen und ...

Maximaltemperatur: 1.600 °C

Der MultiCrystallizer ist ein Vakuum-Ofen für die gerichtete Erstarrung (VGF – Prozess) von multikristallinen Silizium-Blöcken zur Herstellung von Wafern für die Photovoltaik-Industrie. Die neue HC-Version (MultiCrystallizer ...

Maximaltemperatur: 2.600 °C

... Die HTCVT / HTCVD-Anlage wurde speziell für das Kristallwachstum von Siliziumkarbid (SiC) durch Sublimation / thermische Zersetzung (Pyrolyse) von Quellgasen bei hohen Temperaturen entwickelt. Durch die Hochvakuumfähigkeit können vor ...