In Umgebungen für die industrielle Qualitätssicherung oder Forschung ist das Rasterelektronenmikroskop die beste Wahl für Metallografie- und Fehleranalyse. Denn es bietet Imaging in Hochauflösung und eine hohe räumliche Auflösung der chemischen Zusammensetzung.
ZEISS EVO wurde insbesondere für routinemäßige Untersuchungen und Analyseaufgaben konzipiert. Es bietet ein überragendes Betriebskonzept, das nicht nur erfahrene Anwender anspricht, sondern auch Ingenieure, die keine REM-Experten sind.
EVO liefert hochwertige Daten zu nicht leitenden Werkstücken, die wegen nachfolgender Untersuchungen nicht mit einer leitfähigen Schicht behandelt werden können.
EVO kann nahtlos in multimodale Workflows integriert werden – ermöglicht durch das halbautomatisierte Wiederauffinden von Regions of Interest und Lösungen zur Datenintegrität über Systeme, Labors und sogar Standorte hinweg.
In Verbindung mit SmartPI – der normenkonformen REM-Partikelanalyselösung von ZEISS, die eine Klassifizierung von Partikeln auf Basis ihrer chemischen Zusammensetzung ermöglicht – wird EVO zur Komplettlösung für Technische Sauberkeit.
Dank verschiedener Kammergrößen und Vakuumsysteme sowie diverser Elektronenquellen und Analyseoptionen lässt sich EVO mit Sicherheit auf Ihre Leistungs- und Budgetanforderungen zuschneiden.