Mikroskop für die Materialanalyse ZEISS ORION NanoFab
DigitalkameraHelium-Ionen

Mikroskop für die Materialanalyse
Mikroskop für die Materialanalyse
Mikroskop für die Materialanalyse
Zu meinen Favoriten hinzufügen
Zum Produktvergleich hinzufügen
 

Eigenschaften

Anwendungsbereich
für die Materialanalyse
Weitere Eigenschaften
Digitalkamera, Helium-Ionen
Räumliche Auflösung

0,5 nm

Beschreibung

Ihr 3-in-1 Multistrahl-Ionenmikroskop für Nanostrukturierung im Bereich unter 10nm Erstellen Sie schnell und präzise Nanostrukturen unter 10 nm. Wechseln Sie mit ORION NanoFab nahtlos zwischen Gallium-, Neon- und Helium-Strahlen: Verwenden Sie den Neonstrahl, um Nanostrukturen mit großer Schnelligkeit und hohem Durchsatz zu bearbeiten. Verwenden Sie den Heliumstrahl zur Herstellung empfindlicher Strukturen unter 10 nm. Verwenden Sie das optionale Gallium-FIB zur Abtragung von massivem Material. Mit ORION NanoFab profitieren Sie von dem einzigen System der Welt, das das vollständige Applikationsspektrum von Mikro- bis hin zur Nanobearbeitung abdeckt und mit Gallium-, Neon- und Helium-Ionenstrahlen arbeitet, die in einem einzigen Instrument integriert sind.

Kataloge

Für dieses Produkt ist kein Katalog verfügbar.

Alle Kataloge von ZEISS Industrial Metrology anzeigen

Messen

Sie können diesen Hersteller auf den folgenden Messen antreffen

BIEMH 2024
BIEMH 2024

3-07 Juni 2024 Bilbao (Spanien) Halle 6 - Stand C-10

  • Mehr Informationen
    * Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.