Maßgefertigter Magnetische Verbindung ECR Ion Source Hexapole Permanent Magnet

Der Hexapol-Permanentmagnet für ECR-Ionenquellen ist eine sechs-Pol-Anordnung in Halbach-Struktur, ausgelegt zur Erzeugung eines starken, gleichmäßigen radialen Magnetfeldes an der Innenwand der Plasmakavität und zur Erfüllung der Feldstärkenanforderungen für stabile Mehrfachladung-Ionenstrahlproduktion.

Konstruktionsprinzip

• Halbach-Sechs-Pol-Anordnung zur Erzeugung eines konzentrierten, gleichmäßigen radialen Feldes im Arbeitsbereich.
• Verwendung leistungsfähiger NdFeB-Permanentmagneten (Beispiele: N45, N50M) für hohe Remanenz und Koerzitivkraft zur Gewährleistung magnetischer Stabilität.
• Dimensionsoptimierung (Innen-/Außendurchmesser, Dicke, Sektoranordnung) zur Sicherstellung der Feldgleichmäßigkeit am Referenzradius R = 50 mm und zur Reduktion höherer Feldkomponenten.

Produkteigenschaften

• Stabile magnetische Leistung durch Material- und Strukturoptimierung.
• Feldstärke abgestimmt auf die Anforderungen von ECR-Ionenquellen an der Innenwand der Plasmakavität.
• Anpassungsmöglichkeiten für Geometrie, Magnetgüte und thermische Aspekte gemäß Kundenspezifikation.
• Einsetzbar für kleine und mittlere experimentelle Plattformen für Mehrfachladung-Ionenstrahlen und für Ionenimplantationssysteme.

Magnetfeldsimulation und Installation

• Magnetfeldsimulation mit fortschrittlichen Tools (Beispiele: POISSON, PERMAG, TOSCA) zur Berechnung der Feldverteilung und Unterstützung der Konstruktionsentscheidungen.
• Professionelle Montage-, Installations- und Inbetriebnahmeverfahren zur Gewährleistung exakter Ausrichtung und langfristiger Stabilität; Betriebs- und Wartungsanleitungen werden bereitgestellt.

Merkmale / technische Spezifikationen

• Magnettyp: Halbach-strukturiertes Hexapol-Permanentmagnet-Assembly.
• Magnetmaterialien: NdFeB (z. B. N45, N50M).
• Design-Bewertungspunkt: radiale Referenz R = 50 mm (Feldgleichmäßigkeit und -intensität an diesem Radius optimiert).
• Simulationswerkzeuge: POISSON, PERMAG, TOSCA.
• Typische Anwendungen: ECR-Ionenquellen zur Erzeugung von Mehrfachladung-Ionenstrahlen, Ionenimplantationsmaschinen und verwandte kleine/mittlere experimentelle Plattformen.
• Anpassung: Geometrie, Materialgüte und thermische/temperature Aspekte auf Anfrage.